[发明专利]一种镀膜速率的精确标定方法及其应用

权利要求书

1.一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于包括以下步骤：

①制备标准基片(1)；所述标准基片(1)包括衬底(11)和干涉膜(12)；制备方法为：在衬底(11)上引入一层足以形成干涉的干涉膜(12)；

②测量标准基片(1)的透射谱或反射谱；

③将待测速率薄膜(2)镀制在标准基片(1)上，镀膜时间为t；

④测量镀膜后的标准基片(1)的透射谱或反射谱；

⑤比较第②步和第④步中的透射谱或反射谱，根据峰位的变化量计算出镀膜厚度d，则根据镀膜时间t和镀膜厚度d计算出镀膜速率v。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于：所述第⑤步中，采用多峰分解拟合技术确定镀制待测薄膜前后的峰位；所述多峰分解拟合技术的具体步骤为：

①在原始数据光谱上，初步确定构成光谱的主峰和次峰总数；

②通过数据分析处理软件或自编程序，生成每个峰的初始结构；

③确定拟合目标误差值，通过不断调节各分解子波的占比来构筑总的拟合光谱；

④对比拟合光谱与原始光谱之间差异，当此差异小于给定的拟合目标误差值时，停止拟合，此时得到的特定分解子波占比构成的拟合光谱即为目标拟合光谱，该光谱的峰位即为最终确定的精确峰位；

⑤如果经过长期拟合仍然达不到给定的拟合目标误差值，重新回到步骤①，修改调整分解子波的初始结构或数量，重复步骤②～④，直至达到目标拟合误差值，确定干涉峰的精确峰位。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于：所述标准基片(1)的衬底(11)与干涉膜(12)的折射率不同。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于：所述标准基片(1)的干涉膜(12)的厚度使干涉膜(12)在400-1000nm波段只产生一级干涉。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于：所述标准基片(1)的衬底(11)可以选自光学玻璃、石英片、宝石片、硅片或锗片。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜速率的精确标定方法，其特征在于：所述第③步中镀制待测速率薄膜(2)的方法包括磁控溅射和真空蒸发镀膜方法。

7.根据权利要求1至6之一的一种镀膜速率的精确标定方法的应用，其特征在于：在镀膜速率稳定性和镀膜速率随时间变化的精确测量中的应用。