[发明专利]用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料、结构及制备方法无效
申请号: | 201110359132.X | 申请日: | 2011-11-14 |
公开(公告)号: | CN102392176A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 赵平;赵晓邦 | 申请(专利权)人: | 西华大学 |
主分类号: | C22C37/04 | 分类号: | C22C37/04;C22C33/08 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 李世喆 |
地址: | 610039 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 辐射 屏蔽 碳化 球墨铸铁 材料 结构 制备 方法 | ||
1.一种用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将含B4C颗粒加入到液态的球墨铸铁中以形成含硼球墨铸铁液体;
将所述含硼球墨铸铁液体凝固以形成具有球墨铸铁基体和B4C颗粒的用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料。
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,进一步包括:
在将含B4C颗粒加入到液态的球墨铸铁中之前,在所述含B4C颗粒的表面上形成完全包覆或部分包覆的保护层。
3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述保护层是含镍保护层。
4.如权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述含镍保护层的厚度为10微米以上,优选地为10~50微米,更优选地为10~20微米。
5.如权利要求1至4中任一项所述的制备方法,其特征在于,
所述含B4C颗粒的粒度为0.05~0.50mm,优选地为0.10~0.40mm,更优选地为0.10~0.35mm;
和/或
所述含B4C颗粒的重量百分比为0.50~3.00%,优选地为0.60~3.00%,更优选地为0.70~2.80%。
6.如权利要求1至5中任一项所述的制备方法,其特征在于,在将含B4C颗粒加入到液态的球墨铸铁中时,所述液态的球墨铸铁的温度为1200~1400℃,优选地为1300~1400℃,更优选地为1320~1360℃。
7.一种用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料,其特征在于,所述用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料利用如权利要求1-6中任一项所述的制备方法制成。
8.如权利要求7所述的用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料,其特征在于,所述辐射屏蔽材料中包含的硼的重量百分比为0.5-3.0%,优选地为1.0-2.0%,更优选地为1.5-2.0%。
9.如权利要求7或8所述的用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料,其特征在于,所述球墨铸铁是QT500-7至QT700-2的球墨铸铁。
10.一种用于辐射屏蔽的结构,其特征在于,其通过如权利要求7至9中任一项所述的用于辐射屏蔽的碳化硼-球墨铸铁材料构成。
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