[发明专利]一种金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110359286.9 申请日: 2011-11-12
公开(公告)号: CN102392305A 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 任豪;曾群;刘颂豪;张庆茂 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: C30B29/28 分类号: C30B29/28;C30B23/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林丽明
地址: 510631 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 离子 掺杂 石榴石 晶体 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于功能材料和激光技术领域,具体涉及一种金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的制备方法。

背景技术

钇铝石榴石(Y3Al5O12,简称YAG)属立方晶系,每个晶胞由中有8个Y3Al5O12分子,一共有24个Y3+离子,40个Al3+离子,96个O-2离子共160个离子组成,物理、化学、机械和光学性能优异,是一种重要的无机非金属功能材料,也是一种优质的固体激光基质材料。金属离子对YAG的掺杂,例如Nd掺杂YAG(Nd3+:Y3Al5O12)是目前综合性能最优,应用最广泛的激光工作物质。

YAG基固体激光工作物质主要包括晶体、粉体和透明陶瓷等不同的固体形态,但晶体、粉体和透明陶瓷等无法满足集成光学、光电集成等领域的发展要求,存在尺寸、加工等方面的困难,而YAG基薄膜目前已用在平面光波导、带波导结构的激光晶体和波导激光器等。YAG基薄膜的制备方法目前报道的有脉冲激光沉积(PLD)法和溶胶凝胶法等。M.Ezaki等(M.Ezaki,et al.,Characterization of Nd:Y3Al5O12 thin films grown on various substrates by pulsed laser deposition,Appl.Phys.Lett.,69(20):2977~2979,1996)采用脉冲激光沉积法制备Nd:YAG薄膜,S Fukaya等(S Fukaya,et al.,The growth of Cr4+:YAGand Cr4+:GGG thin films by pulsed laser deposition,Optics Communications,187(1):373~377,2001)采用脉冲激光沉积法制备Cr4+:YAG和Cr4+:GGG薄膜,赵志伟等公开一种掺石榴石平面光波导的制备方法(专利号ZL 200410084638.4),其采用脉冲激光沉积法制备用作平面光波导的yb3+:GGG薄膜。但脉冲激光沉积法所采用的激光设备昂贵、转换效率较低,不适合大面积工业生产。

D.Ravichandr等(D.Ravichandran,et al.,Fabrication of Y3Al5O12:Eu thin films and powders for field emission display applications,Journal of Luminescence,71:291~297,1997)采用溶胶凝胶法旋涂制备Eu3+:YAG薄膜,J.Y.Choe等(J.Y.Choe,et al.,Alkoxy sol-gel derived Y3-xAl5O12:Tbx thin films as efficient cathodoluminescent phosphors,Appl.Phys.Lett.,78(24):3800~3802,2001)采用溶胶凝胶法旋涂制备Tb:YAG薄膜,这些YAG基薄膜主要用于阴极射线管和场致发射装置中无机发光材料,溶胶凝胶法属于湿化学法,工艺复杂,均匀性和兼容性较差。

发明内容

本发明的目的在于突破现有YAG基固体激光工作物质(主要是晶体、透明陶瓷等固体形态)的形态限制,提供一种金属离子掺杂的钇铝石榴石晶体薄膜的制备方法。所述制备方法可以获得高质量的金属离子掺杂钇铝石榴石晶体薄膜,且生产成本低,适合于大面积批量生产。本发明所述方法制备得到的功能薄膜和激光材料,可以满足激光技术、集成光学、光电集成的发展需要。

本发明的上述目的通过如下技术方案予以实现:

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