[发明专利]无桥PFC系统的采样装置和方法

权利要求书

1.一种无桥PFC系统的采样装置，其特征在于，包括：

分流器，所述分流器连接在所述无桥PFC系统的第一电源输入端和所述无桥PFC系统的整流模块的第一输入端之间；

隔离运算放大器，所述隔离运算放大器的第一输入端连接所述第一电源输入端，所述隔离运算放大器的第二输入端连接所述整流模块的第一输入端，所述隔离运算放大器的输出端连接所述无桥PFC系统的控制模块，所述控制模块基于所述隔离运算放大器输出的电源输入电流采样信号控制所述无桥PFC系统的晶体管拓扑模块的开关；

其中所述晶体管拓扑模块包括第一晶体管和第二晶体管，其中所述第一晶体管的漏极经第一电感连接所述无桥PFC系统的第二电源输入端，所述第一晶体管的漏极同时连接到所述整流模块的第二输入端，所述第一晶体管的源极连接所述第二晶体管的源极，所述第二晶体管的漏极连接所述整流模块的第一输入端和所述分流器，所述第一晶体管的栅极和所述第二晶体管的栅极连接所述控制模块。

2.根据权利要求1所述的无桥PFC系统的采样装置，其特征在于，所述晶体管拓扑模块进一步包括第三晶体管和第四晶体管，其中所述第三晶体管的漏极经第二电感连接所述无桥PFC系统的第二电源输入端，所述第三晶体管的漏极同时连接到所述整流模块的第二输入端，所述第三晶体管的源极连接所述第四晶体管的源极，所述第四晶体管的漏极连接所述整流模块的第一输入端，所述第三晶体管的栅极和所述第四晶体管的栅极连接所述控制模块。

3.根据权利要求1所述的无桥PFC系统的采样装置，其特征在于，所述整流模块包括第一二极管、第二二极管、第三二极管和第四二极管，其中所述第一二极管的阳极连接所述第一晶体管的漏极和所述第三二极管的阴极，所述第一二极管的阳极为所述整流模块的第二输入端，所述第一二极管的阴极连接所述第二二极管的阴极，所述第一二极管的阴极和所述第二二极管的阴极的连接点为所述整流模块的输出端，所述第二二极管的阳极为所述整流模块的第一输入端且连接所述第四二极管的阴极，所述第四二极管的阳极连接控制地和所述第三二极管的阳极，所述第三二极管的阴极连接所述第一二极管的阳极。

4.根据权利要求1-3中任一权利要求所述的无桥PFC系统的采样装置，其特征在于，所述无桥PFC系统的采样装置进一步包括连接到所述整流模块的输出端和控制地之间的输出模块。

5.根据权利要求4所述的无桥PFC系统的采样装置，其特征在于，所述输出模块包括第一电容和第一电阻，所述第一电容和所述第一电阻并联连接在所述整流模块的输出端和所述控制地之间。

6.一种无桥PFC系统的采样方法，其特征在于，包括：

S1、使用根据权利要求1-5中任意一项所述的无桥PFC系统的采样装置连续采样所述无桥PFC系统的输入电流；

S2、基于采样的输入电流控制所述无桥PFC系统中晶体管的开关以实现所述无桥PFC系统的连续工作模式。

7.根据权利要求6所述的无桥PFC系统的采样方法，其特征在于，在所述步骤S2中，采用平均电流法控制所述无桥PFC系统中晶体管的开关以实现所述无桥PFC系统的连续工作模式。