[发明专利]圆柱磁控溅射阴极

权利要求书

1.一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴及至少一磁体装置，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体，其特征在于：所述圆柱磁控溅射阴极还包括至少一安装座，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述第一平台与第二平台之间的相对高度可改变，每一第一磁体可拆卸地安装在一第一平台上，每一第二磁体可拆卸地安装在一第二平台上。

2.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述第一磁体与第二磁体之间的极性排布相反。

3.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述磁体装置的个数为1~4个。

4.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：每一第一磁体由若干条形的第一磁铁纵向堆叠而成，所述若干第一磁铁的极性排布相同，且所述二第一磁体中的每一第一磁铁的极性排布相同。

5.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述第二磁体由若干条形的第二磁铁纵向堆叠而成，所述若干第二磁铁的极性排布相同，且与所述若干第一磁铁的极性排布相反。

6.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述安装座的材质为导磁材料。

7.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述安装座的个数大于或等于所述磁体装置的个数。

8.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述第一平台的宽度与所述第一磁体的宽度相当或略宽于第一磁体的宽度1~2mm；所述第二平台的宽度与所述第二磁体的宽度相当或略宽于第二磁体的宽度1~2mm。

9.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述磁体装置还包括二软磁性件，所述软磁性件对称设置在所述第二磁体的两侧，且每一软磁性件设置在所述第二磁体与第一磁体之间。

10.如权利要求9所述的圆柱磁控溅射阴极，其特征在于：所述软磁性件的材质为钴、镍及铁中的一种。

11.一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴及至少一磁体装置，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体，其特征在于：所述圆柱磁控溅射阴极还包括至少二组安装座，每一组安装座包括至少一安装座，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述每一组安装座中的第一平台与一第二平台之间的相对高度与其余的每一组安装座中的第一平台与一第二平台之间的相对高度不同，所述第一平台每一所述第一磁体可拆卸地安装在一所述第一平台上，每一所述第二磁体可拆卸地安装在一所述第二平台上。