[发明专利]一种高透明聚酯薄膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种高透明薄膜及其制备方法，尤其是一种高光透过率、低雾度的高透明聚酯薄膜及其制备方法。

背景技术

双向拉伸聚酯薄膜具有诸多优良的特性：机械强度高、光学性能优良、电绝缘性能佳、阻隔性能好、使用温度范围宽(-70℃-200℃)、耐化学腐蚀性及尺寸稳定性良好等，因此广泛应用于包装、电子电力以及照相、磁性产品等领域。近年来由于液晶显示方面的发展，聚酯薄膜在光学领域方面也有重要应用。从目前液晶显示面板的结构来看，有至少一半以上的液晶显示组件使用的是聚酯膜片。

聚酯薄膜在光学应用方面比在包装或电子电力方面的应用有更高的要求，除了机械强度、热稳定性等方面，还要求更优异的光学性能。比如用于液晶显示面板里的扩散膜和增亮膜方面，要求作为基膜的聚酯薄膜的光透过率达到90％以上，用作液晶显示器保护膜用的基膜甚至要求达到94％以上。除了高的光透过率，还要求低的雾度，有些光学用基膜要求雾度达到1％以内。目前普通包装用的聚酯基膜一般光透过率为85％左右，雾度为2％左右，这样的光学性能很难达到光学应用的要求。

影响薄膜光学性能的因素，除了聚酯原料本身外，还跟制膜配方和工艺有关。在普通的聚酯薄膜生产中，为了适应可加工性的要求，聚酯表层必须含有抗粘连填充粒子(也可以称为微细固体粒子)，以使薄膜表面粗糙而起到收放卷的抗粘连作用。所述微细固体粒子通常是无机粒子(也可称为无机填充粒子，或无机抗粘连粒子)，例如：二氧化硅、磷酸钙、高岭土等，粒子直径一般在1-6μm之间。如图1所示，现有的聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和无机抗粘连粒子2。传统的做法是先将无机粒子添加到聚酯原料中做成母料切片，然后通过母料添加的方式将无机粒子添加到整个薄膜(单层挤出)或薄膜表层(ABA三层共挤中的A层)中。这些无机粒子的添加虽然解决了膜表面的抗粘连性问题，但不可避免地降低了薄膜的光学性能。一方面，无机粒子阻止部分光线使得光透过率降低；另一方面，这些微粒会使部分光线偏离原来的方向使得雾度提高。虽然可以通过减少无机粒子的添加量来改善光学性能，但是效果并不理想，而且会明显降低薄膜表面的抗粘连性能。虽然采用ABA三层结构使得中间层可以不用添加无机粒子，从而一定程度上减缓光学性能的下降，但其效果往往不是很明显(实际上使用三层共挤的目的主要还是为了减少母料的用量而降低材料成本)。

按目前国内的聚酯原料和绝大多数的生产线和工艺水平，很难生产出高要求的光学级聚酯薄膜，现阶段国内所使用的光学级聚酯基膜几乎全部从国外进口。国外生产光学级聚酯薄膜的厂家主要集中在日本和韩国，这些厂家无论是在原料上还是在工艺上都各自进行严格地保密。国内厂商要生产出高品质的光学级聚酯薄膜，需要在原料配方和工艺上有所突破。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是薄膜制备过程中抗粘连粒子的添加降低了基膜原有的光学性能，如使薄膜的光透过率降低，雾度提高。

为了解决上述技术问题，本发明用高透明有机填充粒子(也可称为有机抗粘连粒子，或有机微粒)替代传统的无机粒子作为抗粘连填充粒子。由于有机填充粒子的透明性较好，因此可以尽可能地减少抗粘连粒子对基膜光学性能的影响。此外，相比于无机粒子，有机填充粒子与基膜具有更好的相容性，因此也可以降低对基膜机械性能和工艺性能的不良影响。

本发明采用下述技术方案：

技术方案1，本发明提供一种高透明聚酯薄膜，包括聚酯薄膜基材和抗粘连填充粒子，它的特点是，所述抗粘连填充粒子是高透明有机填充粒子。

技术方案2、一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特点是，所述高透明有机填充粒子的光折射率为1.4-2.0。

技术方案3、一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特点是，所述高透明有机填充粒子的熔点在280℃以上，优选在300℃以上。

技术方案4、一种如技术方案2所述的高透明聚酯薄膜，它的特点是，所述高透明有机填充粒子的光折射率为1.5-1.7。

技术方案5、一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特点是，所述高透明有机填充粒子的粒径为0.6μm-8μm。

技术方案6、一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特点是，所述高透明聚酯薄膜的厚度为12-250μm。