[发明专利]背框以及背光系统有效
申请号: | 201110366622.2 | 申请日: | 2011-11-18 |
公开(公告)号: | CN102392989A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 郭仪正;萧宇均;黄冲;程加河;阙成文;李全;杨流洋 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | F21V21/00 | 分类号: | F21V21/00;F21V29/00;F21S8/00;G02F1/13357 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦;丁建春 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 以及 背光 系统 | ||
1.一种平板显示装置的背框,其特征在于:
所述背框包括主拼接件、辅拼接件以及可调的支架;
所述主拼接件的数量至少为两个,至少一个所述主拼接件的一端设有拼接部,所述至少两个主拼接件通过相应拼接部进行拼接,至少其中一个所述主拼接件的拼接部设有加强结构;所述辅拼接件与所述主拼接件拼接;
所述支架固定于主拼接件或辅拼接件上,或同时固定于主拼接件和辅拼接件上,其中所述支架与主拼接件或辅拼接件之间的可选固定点设有至少两个,以使得支架可选地设置于背框的不同位置;
所述至少两个主拼接件中包括用于设置发热源的主拼接件,所述用于设置发热源的主拼接件具有第一导热能力,所述至少两个主拼接件中其余不用于设置发热源的一个或以上主拼接件具有第二导热能力,所述第一导热能力大于第二导热能力。
2.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:
每个所述主拼接件在拼接部的横截面为折线形状,以形成所述加强结构,所述折线形状包括至少两条相连线段,并且所述两个主拼接件的加强结构为凹凸叠置。
3.根据权利要求2所述的背框,其特征在于:
所述加强结构的折线形状是矩形、梯形、燕尾形、T形、倒T形、锥形、十字形、叉形或网格形。
4.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:
每个所述主拼接件在拼接部的横截面为弧形,形成所述加强结构,并且所述两个主拼接件的加强结构为凹凸叠置。
5.根据权利要求4所述的背框,其特征在于:
所述加强结构的弧形是一个或以上的单曲率、双曲率或多曲率弧形。
6.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:所述支架上沿所述支架的长度方向间隔设置有至少两个贯穿孔,所述背框进一步包括固定件,所述固定件可设置于所述至少两个贯穿孔中的任意一个中,并将所述支架固定于所述拼接件上。
7.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:所述支架上沿所述支架的长度方向设置有条状贯穿孔,所述背框进一步包括固定件,所述固定件可设置于所述条状贯穿孔中的不同位置,并将所述支架固定于所述拼接件上。
8.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:所述支架包括至少两个支架组件,所述至少两个支架组件拼接形成支架,其中至少一支架组件可沿所述支架的长度方向固定于另一支架组件的至少两个不同位置。
9.根据权利要求8所述的背框,其特征在于:所述另一支架组件上沿所述支架的长度方向间隔设置有至少两个贯穿孔,所述支架进一步包括固定件,所述固定件可设置于所述至少两个贯穿孔中的任意一个中,并将所述另一支架组件固定于所述至少一支架组件上。
10.根据权利要求8所述的背框,其特征在于:所述另一支架组件上沿所述支架的长度方向设置有条状贯穿孔,所述支架进一步包括固定件,所述固定件可设置于所述条状贯穿孔中的不同位置,并将所述另一支架组件固定于所述至少一支架组件上。
11.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:
所述用于设置发热源的主拼接件具有第一强度,所述至少两个主拼接件中其余不用于设置发热源的一个或以上主拼接件具有第二强度,所述第二强度大于第一强度。
12.根据权利要求11所述的背框,其特征在于:
所述具有第一导热能力和第一强度的主拼接件是铝件,所述具有第二导热能力和第二强度的主拼接件是镀锌钢件。
13.根据权利要求1所述的背框,其特征在于:
所述至少两个主拼接件包括相互拼接的第一主拼接件和第二主拼接件,其中第一主拼接件的一端表面设有至少两个沿第一主拼接件的长度方向上间隔排列的拼接部,所述第一主拼接件通过其一拼接部与相应的第二主拼接件的一端拼接,以形成不同尺寸的所述背框的主框架。
14.根据权利要求13所述的背框,其特征在于:
所述拼接部是第一主拼接件表面上设置的形状与第二主拼接件的一端适配的凹部,以收容第二主拼接件的一端。
15.根据权利要求13所述的背框,其特征在于:
所述拼接部是第一主拼接件表面上设置的凹部,所述第二主拼接件的表面相应位置设有凸起,所述凸起嵌入凹部,以拼接所述第一主拼接件和第二主拼接件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110366622.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:批量调度系统及方法
- 下一篇:全息图纹膜的制作工艺、全息图纹膜及系统