[发明专利]图形化衬底工艺用步进光刻掩膜版数据拼接方法和修正法

权利要求书

1.图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，该方法包括如下工艺：

一、确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设边长为a；

二、作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将该正六边形外扩，如外扩0.4微米；在该正六边形内作需要的小圆，并将二者做逻辑减法运算；

三、按正三角形排列方式，在坐标X方向移动1/2a，Y方向移动a * sin60⁰，形成双正六边形组图，即单胞图形，重复分布上述双正六边形组图，步进为：a，2a *sin60⁰，得到需要的窗口图形；

四、将以上得到的窗口图形进行居中处理；

五、加上相应型号的步进光刻机的套刻标志。

2.根据权利要求1所述的图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，其特征是：

1）单胞图形数据形成：

第一步，确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设为a；

第二步，作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将其外扩，如外扩0.4微米；在其内作需要的小圆；将二者做逻辑减法运算；

2）分布方式：在坐标X方向移动1/2a，Y方向移动a * sin60⁰，形成双正六边形组图，即单胞图形，重复分布上述组图，得到需要的窗口图形；

3）修正方法：外扩如上所述的正六边形，如外扩0.4微米，即为有效的修正方法；

4）窗口图形的拼接截面为齿轮状或锯齿状。