[发明专利]一种铝互连线及其制备方法

权利要求书

1. 一种用于制备铝互连线的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

以第一薄膜沉积工艺在衬底上沉积钛层；

以第二薄膜沉积工艺在所述钛层上沉积氮化钛层；

在所述氮化钛层上形成含铝的金属层；以及

在所述金属层上形成钛/氮化钛层；

其中所述第一薄膜沉积工艺与所述第二薄膜沉积工艺在两个不同的腔室中进行。

2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述第一薄膜沉积工艺为离子化金属电浆（IMP）工艺。

3. 如权利要求2所述的方法，其特征在于，其中所述离子化金属电浆（IMP）工艺在中浓度电浆环境中进行。

4. 如权利要求3所述的方法，其特征在于，其中所述中浓度电浆环境为电浆浓度在3%~5%的范围内。

5. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述第一薄膜沉积工艺为自电离电浆（SIP）工艺。

6. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述第二薄膜沉积工艺为自电离电浆（SIP）工艺。

7. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述第二薄膜沉积工艺为物理气相沉积（PVD）工艺。

8. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述钛层的厚度为150~250 ?。

9. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，其中所述氮化钛层的厚度为200~300 ?。

10. 一种用权利要求1-9中任意一项所述的方法制备的铝互连线。