[发明专利]具有可调介电抛光选择性的浆料组合物及抛光基材的方法

权利要求书

1.一种化学机械抛光浆料组合物，所述组合物包括作为初始成分的下述组分：

水；

研磨剂；

如式(I)的卤化季铵化合物：

其中R⁸选自C_1-10烷基和C_1-10羟烷基；其中X¹为选自氯化物、溴化物、碘化物和氟化物的卤化物；其中R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地选自饱和或不饱和的C_1-10烷基、C_1-10卤代烷基、C_6-15芳基、C_6-15卤代芳基、C_6-15芳烷基和C_6-15卤代芳烷基；并且其中式(I)中的阴离子可为平衡式(I)中阳离子上的+电荷的任何阴离子；以及，

任选地，如式(II)的双季化物质：

其中每个A独立地选自N和P；其中R¹选自饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基和C₆-C₁₅芳烷基；其中R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自选自氢、饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基、C₆-C₁₅芳烷基和C₆-C₁₅烷芳基；并且其中式(II)中的阴离子可为平衡式(II)中阳离子上的2+电荷的任何阴离子或阴离子的组合。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光浆料组合物，其中所述化学机械抛光浆料组合物包括作为初始成分的下述组分：

水；

0.1-40wt％的研磨剂；

0.001-1wt％的如式(I)的卤化季铵化合物；和

0-1wt％的如式(II)的双季化物质。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光浆料组合物，其中所述化学机械抛光浆料组合物包括作为初始成分的下述组分：

水；

0.1-10wt％的研磨剂；

0.002-0.5wt％的如式(I)的卤化季铵化合物，其中R⁸选自-(CH₂)₂-基，-CH₂CHOH基，-(CH₂)₃-基和-(CH₂)₂-CHOH；其中X¹是选自氯化物和溴化物的卤化物；其中R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地选自-CH₃基和-CH₂CH₃基；并且式(I)中的阴离子选自氯化物阴离子和溴化物阴离子；和，

0.002-0.2wt％的如式(II)的双季化物质；其中每个A为N；其中R¹为-(CH₂)₄-基；其中R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自为-(CH₂)₃CH₃基。