[发明专利]操作图案形成装置的方法和光刻设备

权利要求书

1.一种操作图案形成装置的方法，所述图案形成装置具有图案化部分，所述图案化部分在操作中用辐射束照射以便将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，所述方法包括：

(a)在所述图案形成装置的外周部分内设置围绕所述图案化部分分布的多个参考标记并且测量所述标记相对于彼此的位置；

(b)在图案形成装置的操作周期之后，再次测量所述外周标记的位置；

(c)通过参考所述外周标记的测量位置，计算在所述图案形成装置的所述图案化部分内感兴趣的一个或多个位置处由所述辐射束加热所述图案形成装置引起的局部位置偏差。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述计算步骤(c)包括：

(c1)选择多对所述外周标记以便限定一组穿过所述图案化部分的线，使得对于在所述图案化部分内的多个子区，每个子区被所述线中的多于一条的线穿过；

(c2)求解方程组以计算每个子区的伸缩，每个方程式将在所述线中的每一条线的端部处的标记之间的所测量的位置偏差与沿所述线定位的子区的伸缩相关联；

(c3)通过组合在至少一个测量的外周标记和感兴趣的位置之间针对多个子区所计算的伸缩，计算在所述感兴趣的位置处的局部位置偏差。

3.如权利要求1或2所述的方法，还包括通过光刻工艺用所述图案化辐射束曝光衬底的目标部分、以便将图案从图案形成装置施加至衬底的曝光步骤(d)。

4.如权利要求3所述的方法，其中，重复所述曝光步骤(d)以将所述图案施加至在一个或多个衬底上的一系列目标部分，而不对于每次曝光重复步骤(b)和(c)。

5.如权利要求4所述的方法，其中，对加载到光刻设备中的一系列衬底中的每一个衬底执行多次所述曝光步骤，并且主要在将新的衬底加载到所述设备中时执行步骤(b)和(c)。

6.如权利要求3-5中任一项所述的方法，其中，所述步骤(d)包括根据计算步骤(c)的结果修改所述曝光步骤的至少一个参数，以便减少所施加的图案和衬底上已有的图案之间的重叠误差。

7.如权利要求3-6中任一项所述的方法，其中，所述步骤(d)包括：施加能量至所述图案形成装置以为随后的曝光减少或修改局部位置偏差的分布。

8.如前述权利要求中任一项所述的方法，还包括更新步骤(e)：在测量之间根据预测的升温进度更新所计算的位置偏差。

9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述图案形成装置的所述图案化部分在范围上成大体矩形，并且所述外周标记沿矩形的全部四条边分布。

10.一种光刻设备，包括：

照射系统，配置成调节辐射束；

支撑结构，构造用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，构造用以保持衬底；

投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；和

控制器，布置用以控制所述衬底台和所述图案形成装置相对于彼此以及相对于所述投影系统的移动，以便执行一系列曝光操作，每个曝光操作将图案施加至衬底上的目标部分，

其中，所述控制器布置成在多次曝光操作之前和之后，测量分布在所述图案形成装置的外周部分内的多个参考标记的相对位置，并且由外周标记的所述测量值估计由在所述图案形成装置的所述图案化部分内感兴趣的一个或多个位置处由所述辐射束加热所述图案形成装置引起的局部位置偏差，并且根据估计的位置偏差修改随后的曝光操作的一个或多个参数。

11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述控制器布置成通过下列步骤估计所述局部位置偏差：

选择多对所述外周标记以便限定一组穿过所述图案化部分的线，使得对于在所述图案化部分内的多个子区，每个子区被所述线中的多于一条的线穿过；

求解方程组以计算每个子区的伸缩，每个方程式将在所述线中的每一条线的端部处的标记之间的所测量的位置偏差与沿所述线定位的子区的伸缩相关联；和

通过组合针对在至少一个测量的外周标记和感兴趣的位置之间的多个子区所计算的伸缩，计算在所述感兴趣的位置处的局部位置偏差。

12.根据权利要求10或11所述的设备，其中，所述控制器布置成重复所述外周标记的至少一个子组的测量，并且在将新的衬底加载至所述设备中时更新所估计的局部位置偏差。