[发明专利]检测待测物的缺陷深度的系统及方法

说明书

技术领域

本发明是有关一种检测缺陷的系统及方法，特别是一种检测待测物的缺陷深度的系统及方法。

背景技术

放射线检测方法是一种现有的内部缺陷的非破坏检测方法，此方法是在待测物表面照射一放射源，并在待测物的另一侧撷取透射过待测物的放射源以形成一影像。通过分析此影像，可获得待测物内部缺陷的分布、大小等信息。然而，现有的放射线检测方法是将待测物的内部缺陷通过放射源投影于成像平面上，因此，操作者不易从二维影像中得知待测物内部缺陷的深度信息。

有鉴于此，如何从放射线检测方法所获得的二维影像中获得待测物内部缺陷的深度信息便是目前极需努力的目标。

发明内容

本发明提供一种检测待测物的缺陷深度的系统及方法，其是将待测物的内部缺陷通过不同位置的放射源投影至同一平面上，再通过多个相似三角形关系计算得到待测物内部缺陷的深度信息。

本发明一实施例的检测待测物的缺陷深度的系统包含一第一放射源、一第二放射源、一显像元件以及一计算单元。第一放射源设置于一待测物的一第一表面侧，用以提供一第一放射线。第二放射源设置于待测物的第一表面侧，用以提供一第二放射线，其中第一放射源以及第二放射源设置于待测物的第一表面侧的位置相异。显像元件设置于待测物的一第二表面侧的一平面，其中第一表面以及第二表面彼此相对，显像元件用以分别接收透射过待测物的第一放射线以及第二放射线，以显现待测物中的一缺陷于显像元件上的一第一缺陷位置以及一第二缺陷位置。计算单元则以第一放射源的位置、第一放射源垂直投影至平面的一第一投影位置、第二放射源的位置、第二放射源垂直投影至平面的一第二投影位置、缺陷的位置、缺陷垂直投影至平面的一缺陷投影位置、第一缺陷位置以及第二缺陷位置所形成的多个三角形，利用相似三角形关系计算出待测物中的缺陷至平面间的一距离。

本发明另一实施例的检测待测物的缺陷深度的方法包含以一第一放射源照射一待测物的一第一表面，以得到待测物中的一缺陷显现于待测物的一第二表面侧的一平面的一第一缺陷位置，其中，待测物的第一表面以及第二表面彼此相对；以一第二放射源照射待测物的第一表面，以得到待测物中的缺陷显现于平面的一第二缺陷位置，其中第一放射源以及第二放射源设置于待测物的第一表面侧的位置相异；以及，以第一放射源的位置、第一放射源垂直投影至平面的一第一投影位置、第二放射源的位置、第二放射源垂直投影至平面的一第二投影位置、缺陷的位置、缺陷垂直投影至平面的一缺陷投影位置、第一缺陷位置以及第二缺陷位置所形成的多个三角形，利用相似三角形关系计算出待测物中的缺陷至平面间的一距离。

本发明的检测待测物的缺陷深度的系统及方法将待测物的内部缺陷通过不同位置的放射源投影至同一平面上，其不仅可得知待测物内部缺陷的平面位置，且可通过多个相似三角形关系计算得到待测物内部缺陷的深度信息。

以下通过具体实施例配合所附的图式详加说明，当更容易了解本发明的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。

附图说明

图1为一方块图，显示本发明一实施例的检测待测物的缺陷深度的系统；

图2为一示意图，显示本发明一实施例的放射源、缺陷以及其投影于平面的空间关系；

图3为一示意图，显示本发明另一实施例的放射源、缺陷以及其投影于平面的空间关系；

图4为一示意图，显示本发明又一实施例的放射源、缺陷以及其投影于平面的空间关系；

图5为一流程图，显示本发明一实施例的检测待测物的缺陷深度的方法。

附图标号：

1     检测待测物的缺陷深度的系统

11    第一放射源

12    第二放射源

13    显像元件

14    计算单元

20    待测物

21    第一表面

22    第二表面

30    平面

A     第一放射源的位置

B     第一投影位置

C     第一缺陷位置

D     缺陷的位置

D1_Ray 第一放射源至平面的投影距离

D2_Ray 第二放射源至平面的投影距离

D_Def  缺陷至平面间的距离

D_Day  第一/第二放射源至平面的投影距离

D_SD   缺陷至第一表面的距离