[发明专利]具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法及其结构无效

专利信息
申请号: 201110375140.3 申请日: 2011-11-16
公开(公告)号: CN103117335A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 方学智;邓焕平;洪迪恩 申请(专利权)人: 和淞科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;常大军
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 电路 复合 金属陶瓷 制法 及其 结构
【权利要求书】:

1.一种具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其特征在于,包括下列步骤:

a、提供金属基板;

b、对金属基板进行前处理,以去除金属基板表面的各种物质及油污;

c、将陶瓷材料喷涂溅镀到金属基板表面,并将金属基板完全包覆住;

d、对金属基板进行干燥处理;以及

e、于陶瓷层上形成所需电路。

2.根据权利要求1项所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其特征在于,步骤a的金属基板具有至少一穿孔,该金属基板为铝、钛或镁任一种所构成,步骤b前处理包含脱脂、除污或除锈任一种。

3.根据权利要求1所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其特征在于,步骤c是使用等离子熔射、喷涂或等离子氧化烧结的其中任一种方式,并利用不同电压功率、电流大小、脉波频率大小而将陶瓷材料喷涂溅镀到金属基板表面。

4.根据权利要求1所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其特征在于,步骤c的陶瓷材料为氧化铝、氮化铝或氮化硼复合组成。

5.根据权利要求1所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其特征在于,步骤d后还包括步骤d1,该步骤d1为于该陶瓷层上进行蚀刻并形成一线路路径,该步骤e中,该电路形成在该线路路径上。

6.根据权利要求1所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板的制法,其还包括步骤f,该步骤f为将电子元件结合在该电路上。

7.一种具有电路的复合式金属陶瓷基板结构,其特征在于,包括:

一金属基板;

一陶瓷披覆层,将金属基板完全包覆住;

一电路,设于陶瓷披覆层上;以及

至少一电子元件,结合于电路上。

8.根据权利要求7所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板结构,其特征在于,金属基板具有至少一穿孔,为铝、钛或镁任一种所构成。

9.根据权利要求7所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板结构,其特征在于,陶瓷披覆层为氧化铝、氮化铝或氮化硼复合组成。

10.根据权利要求7所述的具有电路的复合式金属陶瓷基板结构,其特征在于,陶瓷披覆层完全包覆住金属基板后的厚度在6mm以上。

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