[发明专利]铁电薄膜及使用该铁电薄膜的薄膜电容器有效
申请号: | 201110375437.X | 申请日: | 2011-11-23 |
公开(公告)号: | CN103130502A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 野口毅;樱井英章;藤井顺;渡边敏昭;曽山信幸 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | C04B35/49 | 分类号: | C04B35/49;C04B35/491;C04B35/622 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 陈万青;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 使用 电容器 | ||
1.一种铁电薄膜,其采取如下形态,即由选自Bi、Si、Pb、Ge、Sn、Al、Ga、In、Mg、Ca、Sr、Ba、V、Nb、Ta、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Cd、Li、Na、K、P、B、Ce、Nd、Sm及Cs中的1种或2种以上元素构成的金属氧化物B混合在由通式:(PbxLay)(ZrzTi(1-z))O3所示的复合金属氧化物A中的混合复合金属氧化物的形态,式中,0.9<x<1.3,0≤y<0.1,0≤z<0.9,金属氧化物B与复合金属氧化物A的摩尔比B/A为0≤B/A<0.1,其特征在于,
层叠2~23层的烧成层而构成,
所述烧成层的厚度t为45~500nm,
所述烧成层中存在的晶粒的定方向最大径的平均x为200~5000nm,
所述烧成层均满足1.5t<x<23t的关系。
2.一种薄膜电容器,其使用权利要求1所述的铁电薄膜。
3.一种具有权利要求1所述的铁电薄膜的薄膜电容器、电容器、集成无源器件、DRAM存储用电容器、层叠电容器、晶体管的栅极绝缘体、非易失性存储器、热释电型红外线检测元件、压电元件、电光元件、执行器、谐振器、超声波马达或LC噪声滤波器元件的复合电子零件。
4.一种权利要求3所述的与100MHz以上的频带对应的具有铁电薄膜的薄膜电容器、电容器、集成无源器件、DRAM存储用电容器、层叠电容器、晶体管的栅极绝缘体、非易失性存储器、热释电型红外线检测元件、压电元件、电光元件、执行器、谐振器、超声波马达或LC噪声滤波器元件的复合电子零件。
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