[发明专利]一种制备Cu2O薄膜的方法无效
申请号: | 201110376430.X | 申请日: | 2011-11-23 |
公开(公告)号: | CN103132144A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 叶大千;梅增霞;李俊强;刘尧平;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C30B29/64;C30B25/02 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 cu sub 薄膜 方法 | ||
1.一种在蓝宝石衬底上制备Cu2O薄膜的方法,包括:
1)在蓝宝石衬底上沉积MgO缓冲层;
2)在MgO缓冲层上沉积Cu2O薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其中MgO缓冲层的厚度为1~30nm。
3.根据权利要求1所述的方法,其中MgO缓冲层的沉积过程中,衬底的温度在200-600℃范围内。,
4.根据权利要求1所述的方法,其中步骤2)包括先沉积Cu2O缓冲层,再沉积Cu2O薄膜。
5.根据权利要求4所述的方法,其中Cu2O缓冲层的厚度为10~30nm。
6.根据权利要求4所述的方法,其中沉积Cu2O缓冲层时的衬底温度在300-500℃范围内。
7.根据权利要求4所述的方法,其中在沉积Cu2O缓冲层后,在氧气氛下退火。
8.根据权利要求7所述的方法,其中退火温度在600-800℃范围内。
9.根据权利要求1所述的方法,其中Cu2O薄膜的沉积过程中,衬底的温度在500-1000℃范围内。
10.根据权利要求1所述的方法,其中采用MBE法进行薄膜的沉积。
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