[发明专利]一种真空双镀工艺

权利要求书

1.一种真空双镀工艺，其特征在于包括以下工艺步骤：

1）在PET基膜上涂布离型层，离型层厚度为1.6微米-2.1微米；

2）将涂布离型层的PET基膜进行烘干，烘干温度为60℃-120℃；

3）烘干收卷之后进行镭射信息的模压，第一次模压的温度为120℃-145℃，第二次模压的温度为140℃-175℃，模压速度为35-45m/min，模压压力为3KG/CM²；

4）模压后的镭射PET膜进行真空镀铝，铝层厚度为0.038微米-0.04微米，金属铝丝的纯度是99.99%，真空度为6×10^－2-9×10^－2Pa；

5）根据设计的要求及版面效果需要，将需要保留金属镭射效果的部分涂布溶剂型保护层，挥发干燥，保护层厚度为1.2微米-1.7微米；

6）将涂好保护层的镭射PET镀铝膜浸入到碱液池中定位洗铝，速度为35m/min-45m/min，碱液池的PH值为12-14，其温度为50℃-65℃，经烘箱干燥后收卷，烘道的烘干温度为60℃-75℃；

7）定位洗铝后的镭射PET膜经过电晕工艺处理； 

8）电晕之后再进行一次真空蒸镀ZnS工艺，ZnS纯度为99.9%，介质层厚度为0.17微米-0.2微米，真空度为6×10^－2-9×10^－2Pa；

9）经真空蒸镀ZnS工艺后，通过自动水洗机组设备进行水洗工艺，机速为30-60m/min，干燥温度为90℃-110℃；

10）水洗之后的镭射PET膜涂布转移涂料与纸张进行复合，转移涂层厚度为2.5微米-3.0微米，然后通过烘道进行烘干干燥，烘道温度为70℃-90℃，干燥之后膜与纸张剥离，再分别收卷、做纸。

2.根据权利要求1所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤6）中对于细线条的图案或者文字进行定位洗铝时，碱液池的PH值为13，其温度为60℃-65℃，机速为45m/min。

3.根据权利要求1所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤1）中涂布离型层采用型号为FTZ-1100B的多功能涂布复合机组。

4.根据权利要求1所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤3）中模压设备采用型号为MYB-800的双压薄膜模压机。

5.根据权利要求1所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤4）中真空镀铝机是型号为ZZL—2000/0.8的卷绕式镀膜机。

6.根据权利要求1或2所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤6）中定位洗铝采用型号为SX-1000B的镭射膜局部镭射透明洗铝机。

7.根据权利要求1所述的一种真空双镀工艺，其特征在于所述的步骤8）中真空蒸镀工艺采用型号为ZZL-2000/1.1的真空镀膜机。