[发明专利]一种复合式磁控溅射阴极有效
| 申请号： | 201110379503.0 | 申请日： | 2011-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102420091A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 邱清泉;丁发柱;戴少涛;张志丰;古宏伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 复合 磁控溅射 阴极 | ||
1.一种复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的磁控溅射阴极由平面靶材(1)、水冷背板(2)、两个外永磁体(3、4)、两个内永磁体(5、6)、两个外电磁线圈(7、8)、两个内电磁线圈(9、10)、两对外磁轭(11、12)、两对内磁轭(13、14)、底磁轭(15)和框架(16)构成；水冷背板(2)紧密安装在靶材(1)的下方；外永磁体(3、4)、内永磁体(5、6)安装在水冷背板(2)下方；第一外磁轭(11)安装在第一外永磁体(3)的下方，第二外磁轭(12)安装于第二外永磁体(4)的下方，第一内磁轭(13)安装于第一内永磁体(5)的下方，第二内磁轭(14)安装于第二内永磁体(6)的下方；底磁轭(15)位于外磁轭和内磁轭下方；所述的外永磁体、内永磁体、外电磁线圈、内电磁线圈、外磁轭、内磁轭和底磁轭安装在框架(16)中；所述的平面靶材(1)通过电源线连接到阴极电源；所述的两个内电磁线圈(9、10)安装在由外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)和底磁轭(15)包围的空间中偏内的位置，外电磁线圈(7、8)安装在由外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)和底磁轭(5)包围的空间中偏外的位置；外永磁体(3、4)和内永磁体(5、6)产生磁控溅射阴极的主磁场，外电磁线圈(7、8)和内电磁线圈(9、10)产生磁控溅射阴极的辅助磁场。
2.如权利要求1所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的水冷背板(2)为非导磁材料制作、水冷背板(2)内盛有冷却水。
3.如权利要求1所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的第一外永磁体(3)和第二外永磁体(4)以相同的极性安装，第一内永磁体(5)和第二内永磁体(6)以相同的极性安装，外永磁体和内永磁体的安装极性相反。
4.如权利要求1所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：外电磁线圈(7、8)为一闭合线圈，内电磁线圈(9、10)为一闭合线圈，外电磁线圈和内电磁线圈通过引线分别连接到电磁线圈供电电源；
5.如权利要求1所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的平面靶材(1)为金属或合金或陶瓷靶材；所述的外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)、以及底磁轭(15)采用软磁材料制作。
6.如权利要求4所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的外电磁线圈为跑道形或圆形结构。
7.如权利要求4所述的复合式磁控溅射阴极，其特征在于：所述的供电电源为直流电源或脉冲直流电源。
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