[发明专利]可钢化三银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺

权利要求书

1.一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃本体和镀膜，其特征在于，以所述玻璃基片为基板，所述镀膜由内向外的膜层结构为：

第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一电介质层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二电介质层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三电介质层、第三银层、第六阻挡保护层、第二电介质组合层。

2.根据权利要求1所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质组合层、第二电介质组合层为硅基化合物材料。

3.根据权利要求2所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述硅基化合物材料为Si₃N₄、SiO₂或SiOxNy。

4.根据权利要求1所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层为金属锌化合物材料。

5.根据权利要求4所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，

所述金属锌化合物材料为ZnO、AZO中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一间隔电介质组合层、第二间隔电介质组合层为SSTOx、CrNx、CdO、MnO₂、InSbO、TxO、SnO₂、ZnO、ZnSnOx、ZnSnPbOx、ZrO2、AZO、Si₃N₄、SiO2、SiOxNy、BiO₂、Al₂O₃、Nb₂O₅、Ta₂O₅、In₂O₃、MoO₃材料中的一种或几种构成。

7.根据权利要求1所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一、第二、第三、第四、第五、第六阻挡保护层为金属、金属氧化物或金属氮化物材料。

8.根据权利要求7所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，

所述第一、第二、第三、第四、第五、第六阻挡保护层的材料为Ti、NiCr、Ni、Cr、Nb、Zr、NiCrOx、NiCrNx、CrNx中的一种。

9.一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，采用真空磁控溅射镀膜，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将玻璃基片清洗干燥后，置于真空溅射区，进行于真空过渡；

步骤二、以所述玻璃基片为基板，依次沉积第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一电介质层、第一银层、第二阻挡保护层、第二间隔层电介质组合层、第三阻挡保护层、第二电介质层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三层电介质层、第三银层、第六阻挡保护层、第二电介质组合层，形成产品。

10.根据权利要求9所述的一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：

所述第一、第二、第三电介质层、第一、第二电介质组合层、第一、第二间隔电介质组合层均采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射的方式在氩氧、氩氮或氩氧氮氛围中进行沉积；所述第一、第二银层、第一至第六阻挡保护层均采用平面阴极、直流溅射的方式沉积在氩氧、氩氮或纯氩氛围中沉积。