[发明专利]Mo系溅射靶板及其制造方法无效
| 申请号： | 201110383367.2 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN102505109A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 稻熊彻;坂本广明;大石忠美;泉真吾;中村元 | 申请（专利权）人： | 新日铁高新材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C27/04;C22F1/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | mo 溅射 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种Mo系溅射靶板，其特征在于，含氧浓度为10质量ppm～1000质量ppm，平均晶体粒径超过10μm且为50μm以下，溅射面的算术平均波度Wa为0.1μm～2.0μm。
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