[发明专利]基于柔性衬底的声表面波器件的结构及其制造方法无效
申请号: | 201110386108.5 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN102420582A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 周剑;余德永;金浩;王德苗;冯斌 | 申请(专利权)人: | 浙江大学;浙江百士迪科技有限公司 |
主分类号: | H03H9/145 | 分类号: | H03H9/145;H03H3/08 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 柔性 衬底 表面波 器件 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种基于柔性衬底的声表面波器件结构,包括:衬底、底电极层、压电层、顶电极层,工作区由底电极层、压电层、顶电极层构成,其特征在于,所述的底电极层的下方设置有柔性衬底,柔性衬底上设置有开口。
2.根据权利要求1所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构,其特征在于,所述的柔性衬底为:聚脂、聚酰亚胺、液晶聚合物、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲醛、聚丙烯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、聚乙烯对苯二甲酯、聚丙烯己二酯、聚四氟乙烯、丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物、聚砜、尼龙中的任一种有机材料制备的薄膜,其厚度为5~250 μm。
3.根据权利要求1所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构,其特征在于,所述的底电极层至少为:铝、金、银、铜、铁、铂、钛、镍、铬、钨、钼、锌、钴、锆、铌中的一种金属材料制成的薄膜,该薄膜的厚度为10~500 nm。
4.根据权利要求1所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构,其特征在于,所述的压电层至少为:氧化锌、氮化铝、锆钛酸铅中的一种压电薄膜,其厚度为0.5~10 μm。
5.根据权利要求1所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构,其特征在于,所述的压电层至少为氧化锌、氮化铝、锆钛酸铅中的两种材料组合的复合膜层,厚度为0.5~10 μm。
6.根据权利要求1所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构,其特征在于,所述的顶电极层由叉指换能器和反射栅组成,叉指换能器厚度为20~500 nm,反射栅厚度为20~500 nm。
7.一种基于柔性衬底的声表面波器件结构的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
制备柔性衬底,采用物理、化学方法合成柔性衬底薄膜;
制备底电极层:采用磁控溅射或者蒸发方法中的一种方法直接在柔性衬底上制备底电极层;
制备压电层:采用低温物理沉积方法或低温化学沉积方法中的一种方法直接在柔性衬底上制备压电层;
制备顶电极层:在上述压电层上,经过沉积金属电极、光刻、刻蚀,或光刻、沉积金属电极、剥离工艺形成所需电极层;
⑤背面刻蚀衬底:采用干法刻蚀方法,对柔性衬底进行背面体深刻蚀,使得底电极层的下表面能够与空气直接接触。
8.根据权利要求7所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构的制造方法,其特征在于,所述的顶电极层是经过沉积金属、表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测工艺流程制备。
9.根据权利要求7所述的基于柔性衬底的声表面波器件结构的制造方法,其特征在于,所述的顶电极层是经过表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、沉积金属、剥离工艺流程制备。
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