[发明专利]光源装置和投影机有效
申请号: | 201110386656.8 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN102478754A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 秋山光一 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/14;G03B21/00;F21V5/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 万利军;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 装置 投影机 | ||
1.一种光源装置,其特征在于,具备:
光源部,其包括射出激励光的多个固体光源,将前述激励光射出为平行的光线束;
透镜阵列,其将前述激励光分割为多个子光线束;
聚光光学系统,其使分割为前述多个子光线束的前述激励光进行聚光;和
发光元件,其通过所聚光的前述激励光激励而发出荧光。
2.按照权利要求1所述的光源装置,其特征在于:
前述聚光光学系统具有:与前述透镜阵列成对的、前述子光线束进行入射的第2透镜阵列;和使从前述第2透镜阵列所射出的前述子光线束在前述发光元件上重叠的重叠光学系统,
前述透镜阵列的透镜面与前述发光元件的光照射面,通过前述聚光光学系统而处于共轭关系。
3.按照权利要求2所述的光源装置,其特征在于:
构成前述透镜阵列的多个小透镜的俯视形状与前述光照射面的俯视形状为相似形;
前述光照射面的俯视面积、与前述激励光在与前述光照射面相同的空间位置对与前述光照射面平行的平面进行照射的照射面积,基本相等。
4.按照权利要求2或3所述的光源装置,其特征在于:
前述光源部具有:使从前述多个固体光源所射出的前述激励光进行聚光的聚光透镜和使从前述聚光透镜所射出的前述激励光平行化的平行化透镜;
前述平行化透镜在入射面或射出面的任一方,具有旋转二次曲面形状的凹面。
5.按照权利要求4所述的光源装置,其特征在于:
前述平行化透镜中,前述入射面为球面状的凸面,前述射出面为前述凹面。
6.按照权利要求1所述的光源装置,其特征在于:
前述发光元件的光照射面重叠于前述聚光光学系统的焦点位置而设置;
以前述透镜阵列和前述聚光光学系统为两端的积分光学系统的、与前述光照射面共轭的面,设定为无限远。
7.按照权利要求6所述的光源装置,其特征在于:
构成前述透镜阵列的多个小透镜的俯视形状与前述发光元件的光照射面的俯视形状为相似形;
前述发光元件的光照射面的俯视面积与前述积分光学系统的射出瞳的大小基本相等。
8.按照权利要求6或7所述的光源装置,其特征在于:
前述光源部具有:使从前述多个固体光源所射出的前述激励光进行聚光的聚光透镜和使从前述聚光透镜所射出的前述激励光平行化的平行化透镜;
前述平行化透镜在入射面或射出面的任一方,具有旋转二次曲面形状的凹面。
9.按照权利要求8所述的光源装置,其特征在于:
前述平行化透镜中,前述入射面为前述凹面,前述射出面为平面。
10.按照权利要求4、5、8、9中任一项所述的光源装置,其特征在于:
当设以前述凹面与前述光线束的中心轴的交点为原点、以前述中心轴为Z轴、以与前述中心轴相正交的轴为r轴的rθZ圆柱坐标系中的坐标值为r及Z,设近轴曲率为c,设圆锥常数为K时,前述凹面为通过下式所表示的形状,
11.一种投影机,其特征在于:
具备:权利要求1~10中的任一项的光源装置、对从前述光源装置所射出的光进行调制的光调制元件和对通过前述光调制元件所调制的光进行投影的投影光学系统。
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