[发明专利]掩膜板缺陷检测装置无效

专利信息
申请号: 201110387737.X 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN102519968A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 朱骏;张旭昇 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 吴世华;张龙哺
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 缺陷 检测 装置
【权利要求书】:

1.一种掩膜板缺陷检测装置,包括:

光源投射装置,包括光源和透镜,该光源用于发出光束并经透镜投射到掩膜板上;

检测系统,包括多个光强检测器,用于测算掩膜板对该光束的反射率和透射率中的至少一个,并与预先建立的检测基准作比较。

2.如权利要求1所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述光强检测器为三个,分别为第一、第二、第三光强检测器,所述光源投射装置还包括一个分光镜,位于该光束入射光路上,该分光镜将光束分出一部分,所述第一光强检测器位于该分光镜分出光束的光路上,所述第二、第三光强检测器分别位于剩余部分光束入射到掩膜板后的反射光路和透射光路上。

3.如权利要求1至2中任一项所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述光源投射装置还包括一个入射角度调节机构,用于调节光束的入射角度。

4.如权利要求1所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述光源为可调谐激光器发出的激光。

5.如权利要求4所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述可调谐激光器发出的激光波长为157nm、193nm、248nm或257nm。

6.如权利要求1所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述光源为卤素光源。

7.如权利要求6所述的掩膜板缺陷检测装置,其特征在于,所述卤素光源发出的光束通过滤光片调整波长范围为120nm至800nm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110387737.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top