[发明专利]含联三吡啶的取代噻咯类化合物及其制备和应用

权利要求书

1.如式V所示的含联三吡啶的双边相同取代噻咯类化合物：

式V中，R₁、R₂各自独立为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基；R₃为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；

R₄为氢、C1～C6的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；

式V中，不同位置的R₃表示相同的基团，不同位置的R₄表示相同的基团。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于所述R₁为甲基或苯基；R₂为甲基、或苯基；R₃为氢、甲基、乙基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；R₄为氢、甲基、乙基、或苯基中的任意一种或两种以上的组合。

3.如权利要求1所述的化合物的制备方法，其特征在于所述方法为：

式I所示化合物与式III所示化合物在氮气保护下进行Suzuki偶联反应，以四-(三苯基磷)钯为催化剂，在四氢呋喃和水的混合溶剂中，加入碱性物质保持反应液pH值为7～9碳酸钾，回流反应72～100小时，反应结束反应液后处理得到式V所示化合物；所述式I所示化合物与式III所示化合物的物质的量之比为1∶3；

式I或式III中，R₁、R₂各自独立为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基；

式I中，R₃为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；

式III中，R₄为氢、C1～C6的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；

式I中，不同位置的R₃表示相同的基团；式III中，不同位置的R₄表示相同的基团。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于所述反应液后处理方法为：反应结束后，反应液加水猝灭反应，过滤，取滤饼用四氢呋喃溶解，用KOH溶液洗涤后加入Et₂O萃取，取有机层蒸除溶剂，得到式V所示化合物粗品，式V所示化合物粗品经柱层析分离，以石油醚与乙酸乙酯体积比4∶1混合溶液为洗脱剂，所得洗脱液蒸除溶剂，制得式V所示化合物纯品。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于所述式I所示化合物按以下方法制备得到：

氮气保护下，金属锂与萘溶于四氢呋喃中，室温下反应4小时后，滴加式vi所示的化合物，反应10分钟～1小时，然后冷却至-10℃，加入ZnCl₂-TMEDA络合物和四氢呋喃，反应1～2小时后，加入4-溴碘苯和催化剂PdCl₂(PPh₃)₂，在30℃下反应12小时，反应结束后反应液加入1N盐酸猝灭反应，依次用水、饱和NaCl溶液洗涤后加入无水乙醚萃取，取有机层干燥，得到粗产物过柱提纯，以石油醚为洗脱剂，洗脱液蒸除溶剂即得式I所示化合物；所述金属锂、萘、式vi所示的化合物、ZnCl₂-TMEDA络合物、4-溴碘苯的物质的量之比为1∶1～1.1∶0.25∶1∶0.5；

式vi中，R₃为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合，并且，不同位置的R₃表示相同的基团。