[发明专利]一种核苷酸与水滑石纳米片复合发光薄膜材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110389395.5 申请日: 2011-11-30
公开(公告)号: CN102516991A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 陆军;秦胜辉;闫东鹏;段雪 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;C12Q1/68
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 张水俤
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 核苷酸 滑石 纳米 复合 发光 薄膜 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种核苷酸与水滑石纳米片复合发光薄膜材料的制备方法,其特征在于,其具体制备步骤如下:

1).制备层间为硝酸根的水滑石前体;

2).取0.05-0.2g层间为硝酸根的水滑石前体在100-200毫升甲酰胺溶剂里进行剥离24-36小时,氮气保护,搅拌速度为3000-5000转/分,将剥离后的水滑石溶液离心,弃去沉淀物,得到澄清透明胶体溶液B;

3).配制100μmol/L-0.05mol/L的客体溶液C,使用NaOH或KOH调节客体溶液C的PH值为7-9;

4).将亲水化处理后的基底在溶液B中浸泡10-20分钟,用去离子水充分清洗后,放置客体溶液C中,浸泡10-20分钟并充分清洗,得到一次循环的核苷酸与水滑石纳米片复合发光薄膜;

5).重复步骤4),1-50次,得到核苷酸与水滑石纳米片复合发光薄膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的客体溶液C为核苷酸溶液或BSB溶液。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述的核苷酸为AMP、CMP、GMP或UMP。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的亲水化处理方法为将基底用体积比为0.5-2的甲醇和质量浓度为35-38%的浓盐酸混合溶液浸泡30-50分钟,然后在质量浓度为70-85%的浓硫酸中浸泡30-50分钟,最后用去离子水充分清洗。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述的基底为石英,硅片,云母片或玻璃片。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的层间为硝酸根的水滑石前体的制备方法为离子交换法,具体步骤为:

a.配制溶液A,将可溶性二价金属阳离子M2+和可溶性三价金属阳离子M3+的硝酸盐溶液,按M2+与M3+的摩尔比为2-4混合,其中M2+的浓度为0.1-1M,M2+选自Mg2+、Zn2+、Co2+、Ni2+、Ca2+、Cu2+、Fe2+和Mn2+中的一种,M3+选自Al3+、Cr3+、Ga3+、In3+、Co3+、Fe3+和V3+中的一种;

b.向溶液A中加入尿素,尿素的摩尔数为M2+和M3+的摩尔总和的3-5倍;然后转入聚四氟乙烯衬底的压力反应容器中80-130℃条件下进行反应12-24小时,采用去离子热水离心洗涤至中性,60℃干燥12-24小时,得到碳酸根插层水滑石;

c.将质量比为200∶1-500∶1的硝酸钠与碳酸根插层水滑石在惰性气体保护下进行常温离子交换,碳酸根插层水滑石浓度为0.2-10g/L,反应36-48小时后采用除CO2的去离子热水离心洗涤至中性,60℃干燥12-24小时,得到层间为硝酸根的水滑石前体。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的层间为硝酸根的水滑石前体的制备方法为共沉淀法,具体步骤为:

a.配制溶液A,将可溶性二价金属阳离子M2+和可溶性三价金属阳离子M3+的硝酸盐溶液,按M2+与M3+的摩尔比为2-4混合,其中M2+的浓度为0.1-1M,M2+选自Mg2+、Zn2+、Co2+、Ni2+、Ca2+、Cu2+、Fe2+和Mn2+中的一种,M3+选自Al3+、Cr3+、Ga3+、In3+、Co3+、Fe3+和V3+中的一种;

b.配制NaOH或KOH溶液,NaOH或KOH的摩尔数为步骤a中M2+和M3+的摩尔总和的2-2.5倍,浓度为0.1-2M;

c.将步骤a配制的硝酸盐混合溶液A在N2保护的条件下缓慢滴加到步骤b配制的碱液中,搅拌,利用1-5mol/L的NaOH将溶液的pH值范围调节至7-10,在70℃-80℃晶化12-24小时,采用除CO2的去离子热水离心洗涤至中性,60℃干燥12-24小时,得到层间为硝酸根的水滑石前体。

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