[发明专利]基于虚拟仪器的注入机控制系统

说明书

技术领域

本发明涉及半导体器件制造领域，特别涉及一种基于虚拟仪器的注入机控制系统。

背景技术

离子注入是IC制造领域的重要环节之一，在太阳能为代表的新能源领域中扮演着重要角色，离子注入机本身是融合了高真空环境、高压环境以及高温环境的复杂系统，尤其特别的是在注入过程中充满了大量毒性特殊气体。随之自动化技术的发展和高效率生产的需求下，充分智能的注入机控制系统日益凸显出了其重要性。

随着注入机在功能上不断地趋于复杂，需要集成多套测量设备来满足完整的控制需求，而连接和集成这些不同设备总是要耗费大量的时间。计算机技术的飞速发展，虚拟仪器技术在自动测试及自动化领域起着越来越重要的角色。面对大量复杂信号的采集与处理和不同仪器的协调控制，虚拟仪器技术凭借高性能的模块化硬件，结合灵活的软件来完成各种测试、测量和自动化的应用。软件即是仪器是NI公司提出的虚拟仪器理念的核心思想，NI LabVIEW图形化开发工具自1986年问世以来，在产品设计周期的各个环节都得到了充分的应用，改善了产品质量、缩短了产品的周期，并提高了产品开发效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单可用于大面积注入的基于虚拟仪器的注入机控制系统。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种基于虚拟仪器的注入机控制系统，包括注入机电源系统、设置有注入机控制软件的上位机、反应腔室、预抽腔室；所述上位机通过一数字输出控制器控制设置在反应腔室和预抽腔室之间的真空阀门完成反应腔室和预抽腔室的隔离，并通过所述数字输出控制器在所述反应腔室和预抽腔室的气压达到所述真空门阀开启要求时，控制一门阀机械手将硅片穿过所述预抽腔室送达所述反应腔室，并放置在所述反应腔室内设置的一下电极，并控制所述下电极的位置；所述上位机通过一串口服务器控制设置在所述反应腔室的分子泵和调压阀，使得反应腔室达到高真空度，及在反应完成后，控制所述分子泵使反应腔室回归至低真空度。

进一步地，该基于虚拟仪器的注入机控制系统还包括送气装置，所述送气装置包括气源、质量流量控制器和电磁阀；所述气源依次通过所述质量流量控制器、电磁阀与所述反应腔室连接。

进一步地，所述上位机包括实时监控模块，监测当前控制系统运行状态，直观体现控制系统的当前运行状态；

工艺控制模块，选择欲反应的气体、设定气体流量、反应时间及吹扫次数，并控制放片、取片及反应过程。

进一步地，所述注入机电源系统包括射频电源、射频电源匹配器及脉冲电源；所述脉冲电源与所述反应腔室连接；所述射频电源通过所述射频电源匹配器与所述反应腔室连接。

进一步地，该基于虚拟仪器的注入机控制系统还包括数据采集卡，所述数据采集卡设置在所述上位机与反应腔室及预抽腔室之间。

进一步地，所述上位机设置了NI6299采集卡。

进一步地，所述注入机控制软件是基于labview的环境开发。

本发明提供的基于虚拟仪器的注入机控制系统信号采集系统整合度高，为控制提供了牢靠的外界条件，结构简单且可用于大面积的离子注入。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种基于虚拟仪器的离子注入机控制系统的结构示意图。

具体实施方式