[发明专利]写辅助电路有效
申请号: | 201110391741.3 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN102486932A | 公开(公告)日: | 2012-06-06 |
发明(设计)人: | 金荣奭;金荣锡 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G11C11/419 | 分类号: | G11C11/419 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;房岭梅 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辅助 电路 | ||
技术领域
本发明涉及写辅助电路。
背景技术
由于制造业的变化,不同晶圆中的N型金属氧化物晶体管和P型金属氧化物晶体管(即,NMOS晶体管和PMOS晶体管)的驱动能力不同或者工作电流不同。如果晶体管的驱动能力高于标准的或者平均水平的晶体管,则该晶体管称为“快”(“F”)。相反,如果晶体管的驱动能力低于平均水平的晶体管,则该晶体管为“慢”(“S”)。通常,符号FF、FS、SF、和SS分别指的是快NMOS快PMOS、快NMOS慢PMOS、慢NMOS快PMOS、以及慢NMOS慢PMOS晶体管。
在许多情况下,将数据写到静态随机存取存储器(SRAM)都会涉及到改变已经存储在存储器存储节点中的数据,并且通常都基于字线的脉冲宽度。在一些“困难的”情况下,包括,例如,当晶体管是SS和SF,并且在一些特定的工作电压、和/或温度下进行写操作,改变数据就会很困难。又例如,在一些方法中,VDDA电源驱动PMOS或者存储器单元的上拉侧,VDD电源驱动NMOS或者存储器单元的下拉侧。当电压VDDA大于电压VDD时,PMOS侧难以翻转(flip)数据,从而难以有效地将数据写到存储器的存储节点。提高字线的脉冲宽度改进了这种情况,但还是降低了工作频率,而这通常是不希望看到的。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提出了一种字线跟踪驱动器电路,包括:第一NMOS晶体管,具有第一NMOS栅极、第一NMOS漏极、以及第一NMOS源极;第二NMOS晶体管,具有第二NMOS栅极、第二NMOS漏极、以及第二NMOS源极;第三NMOS晶体管,具有第三NMOS栅极、第三NMOS漏极、以及第三NMOS源极;第一PMOS晶体管,具有第一PMOS栅极、第一PMOS漏极、以及第一PMOS源极;第二PMOS晶体管,具有第二PMOS栅极、第二PMOS漏极、以及第二PMOS源极;第三PMOS晶体管,具有第三PMOS栅极、第三PMOS漏极、以及第三PMOS源极;以及上拉电路,连接到第一PMOS漏极;其中,第一PMOS漏极连接到第二NMOS漏极、第二PMOS漏极、第三PMOS栅极、以及第三NMOS栅极;第一PMOS栅极连接到第一NMOS栅极;第三PMOS漏极连接到第三NMOS漏极以及第二NMOS栅极;第二NMOS源极连接到第一NMOS漏极;以及第三PMOS漏极被配置为提供跟踪字线信号。
其中,上拉电路是第四PMOS晶体管,第四PMOS晶体管具有第四PMOS漏极和第四PMOS栅极,第四PMOS漏极连接到第一PMOS漏极,第四PMOS栅极连接到第三PMOS漏极。
其中:上拉电路包括第四PMOS晶体管和第五PMOS晶体管,第四PMOS晶体管具有第四PMOS栅极、第四PMOS漏极、以及第四PMOS源极;第五PMOS晶体管具有第五PMOS栅极、第五PMOS漏极、以及第五PMOS源极;第四PMOS栅极连接到第三PMOS漏极;第四PMOS漏极连接到第一PMOS漏极;第四PMOS源极连接到第五PMOS漏极;以及第五PMOS栅极被配置为接收控制信号,以控制第五PMOS晶体管,从而控制第四PMOS晶体管。
其中,第二NMOS栅极被配置为接收逻辑高电平。
其中:第一NMOS栅极被配置为接收基于第一电源产生的信号,以及第一PMOS晶体管、第二PMOS晶体管、以及第三PMOS晶体管由第二电源供电,第二电源与第一电源不同。
此外,还提供了一种方法,包括:在字线驱动器电路中,在第一节点上产生第一上拉电流;以及在跟踪字线驱动器电路中,在第二节点上产生第二上拉电流;第二电流被配置为高于第一电流;其中,当第一节点处于第一节点逻辑高电平时,由字线驱动器电路产生的字线处于字线逻辑低电平,当第一节点处于第一节点逻辑低电平时,字线处于字线逻辑高电平;以及当第二节点处于第二节点逻辑高电平时,由跟踪字线驱动器产生的跟踪字线处于跟踪字线逻辑低电平,当第二节点处于第二节点逻辑低电平时,跟踪字线处于跟踪字线逻辑高电平。
该方法进一步包括:将第一PMOS晶体管配置为其第一漏极连接到第一节点,以在第一节点上产生第一上拉电流;将第二PMOS晶体管配置为其第二漏极连接到第二节点,以在第二节点上产生第二上拉电流;第一PMOS晶体管的第一尺寸小于第二PMOS晶体管的第二尺寸。
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