[发明专利]一种数显线性枪瞄有效

专利信息
申请号: 201110392832.9 申请日: 2011-12-01
公开(公告)号: CN102419133A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 郑泽龙;郝志强;程学文 申请(专利权)人: 西安华科光电有限公司
主分类号: F41G1/00 分类号: F41G1/00
代理公司: 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 代理人: 李东京
地址: 710077 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 种数 线性
【说明书】:

技术领域

发明属于射击技术领域,具体涉及一种数显线性枪瞄。

背景技术

目前在进行射击时,枪瞄准器需要人工根据射击目标的距离、当时当地的气象条件、枪支子弹不一样等多种因素影响,需对枪瞄准器进行弹道补偿调整。

因为子弹被射出时是类似抛物线运动体,受到重力和空气阻力的综合影响,飞出了很复杂的轨迹。包含一次方、二次方和三次方的变量是很难用数学公式通过计算机完成伺服控制,采用传统的人力观测、手动调整标尺对枪瞄准器进行弹道补偿调整,精度不高,不容易实现精准的瞄准射击。

发明内容

本发明的目的在于提供一种数显线性枪瞄,以解决目前人力观测、手动调整标尺对枪瞄准器进行弹道补偿调整所存在的精度不高,不容易实现精准的瞄准射击的问题。

为达上述目的,本发明提供了一种数显线性枪瞄,包括枪瞄固定座和标尺,其特殊之处在于,还包括有沿枪瞄固定座的轴向延伸的线性轨道模板,其顶面是水平的,其底面是弧形的,使得该线性轨道模板的宽度自一端向另一端逐渐减小,且宽度较大的一端与枪瞄固定座的后端活动联接,其宽度较小的另一端的顶部设置有瞄准窥孔且该宽度较小的一端和枪瞄固定座之间设置有支点;所述标尺设置在该线性轨道模板的一侧且沿所述枪瞄固定座的轴向延伸,该标尺是容栅式数显标尺。

上述线性轨道模板上的底面附近的侧面上设置有刻度。

上述线性轨道模板的宽度较大的一端与所述枪瞄固定座的后端通过活动合页联接。

上述线性轨道模板的宽度较小的一端和枪瞄固定座之间设置有弹簧,其位于所述支点的外侧。

本发明的优点是:用数显技术替代传统的人力观测、手动调整方式,使得标尺精度的调整得到大幅度提高。同时利用线性轨道模板技术将非线性弹道补偿线性化,直读标尺数字就可以转化成射击目标距离。配合外配测距仪直接设定标尺,提高命中率。

附图说明

以下将结合附图对本发明做进一步详细说明:

图1是本发明提供的数显线性枪瞄的结构示意图:

图2是设置在枪管上的数显线性枪瞄示意图。

图中:1、枪瞄固定座;2、标尺;3、线性轨道模板;4、线性轨道模板的顶面;5、线性轨道模板的底面 ;6、枪瞄固定座的后端;7、瞄准窥孔;8、支点;9、弹簧。

具体实施方式

如图1所示,为了克服目前人力观测、手动调整标尺对枪瞄准器进行弹道补偿调整所存在的精度不高,不容易实现精准的瞄准射击的问题,本实施例提供了数显线性枪瞄,包括枪瞄固定座1和标尺2,沿枪瞄固定座1的轴向延伸的线性轨道模板3,其顶面4是水平的,其底面5是弧形的,使得该线性轨道模板3的宽度自一端向另一端逐渐减小,且宽度较大的一端与枪瞄固定座1的后端6联接,其宽度较小的另一端的顶部设置有瞄准窥孔7;标尺2设置在该线性轨道模板3的一侧且沿枪瞄固定座1的轴向延伸,该标尺是容栅式数显标尺,以提高调整精度。

上述线性轨道模板3的底面5附近的侧面上设置有刻度。这是由于线性轨道模板3的底面5的弧形面的制作是根据射击实际测量,将不同设计距离所对应的俯仰角度转化线性轨道模板3前后移动的线性距离,而底面5附近的侧面上的刻度正式反应这一线性距离的。

由于线性轨道模板3要前后移动,所以其后端即宽度较大的一端与枪瞄固定座1的后端6活动联接,本实施例子选用的是活动合页实现这一活动联接的。

而线性轨道模板3前后移动的目的是调整枪瞄的高低,为此,在其宽度较小的一端和枪瞄固定座1之间设置有支点8,在支点8外侧设置有弹簧9,当标尺2从线性轨道模板3的一端向另一端移时,线性轨道模板3也会随之移动,由于线性轨道模板3的底面5是弧形的,必然会使得线性轨道模板3做上下移动,而瞄准窥孔7就会随着线性轨道模板3同步作上下移动,上述线性轨道模板的弧度是根据实际弹道坐标加工而成。根据射程设定标尺即可完成枪瞄的正确调整。

从中不难看出,标尺2移动的轨道即是线性轨道模板3的底面5的轨迹,而该轨迹是补偿修正过的曲面,标尺2在曲面上位移时己被修正为线性关系,直接把补偿角转换成直读的距离,方便了枪瞄的调整。

该数显线性枪瞄用数显技术替代传统的人力观测、手动调整方式,使得标尺精度的调整得到大幅度提高。同时利用线性轨道模板技术将非线性弹道补偿线性化,直读标尺数字就可以转化成射击目标距离。配合外配测距仪直接设定标尺,提高命中率。

以上例举仅仅是对本发明的举例说明,并不构成对本发明的保护范围的限制,凡是与本发明相同或相似的设计均属于本发明的保护范围之内。

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