[发明专利]一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110394865.7 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN102437241A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 梅建飞;石劲超 申请(专利权)人: 百力达太阳能股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;B41M1/12
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 翁若莹;柏子雵
地址: 314512 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 消除 印刷 波浪 太阳电池 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,步骤为:

步骤1、提供单晶硅片,将硅片沿切割痕向下方向插入制绒花篮内,再对单晶硅片表面织构化形成绒面结构;

步骤2、将制绒后的硅片沿硅片切割痕向下方向插入石英舟内,再采用磷源扩散法在硅片表面形成PN结,将扩散后的硅片取下石英舟并按相同方向放置在承载盒内;

步骤3、将硅片进行等离子刻蚀去除周边的PN结;

步骤4、将去除周边PN结后的硅片沿切割痕向下方向插入花篮内,再进行酸洗去除硅片表面的磷硅玻璃;

步骤5、采用等离子增强化学气相沉积法在上述硅片的扩散面沉积一层氮化硅薄膜形成钝化及减反射层,镀膜后的硅片按相同方向放置在待印刷的承载盒内;

步骤6、通过丝网印刷在硅片的背面依次印刷背电极浆料和背电场浆料,在正面印刷正电极浆料,印刷时使得正电极细栅线的方向与切割线方向成垂直状; 

步骤7、对印刷后的电池片进行烧结,烧结后背电极浆料和背电场浆料形成太阳能电池的背面Ag电极和铝背场,而正面电极浆料则穿过钝化及减反射层与扩散层接触,形成具有良好欧姆接触的太阳能电池的正面Ag电极。

2.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述对单晶硅片表面织构化形成绒面结构包括如下步骤:对来料的单晶硅片沿切割痕向下方向插入制绒花篮内,将装入花篮内的硅片进行预清洗,预清洗采用超声波,并添加一定的清洗去污剂(4L双氧水),之后将硅片置于温度为75-80℃,质量百分比浓度为1%-2%的氢氧化钠溶液中进行表面织构化工艺,并添加适量30-50ml制绒催化剂,以在<100>晶向的硅片表面形成均匀一致的大小在1-3um的“金字塔”状绒面结构,使表面具有良好的陷光效果。

3.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述对单晶硅片进行扩散形成PN结包括如下步骤:将制绒后的硅片以沿切割痕向下方向插入石英舟内,以液态三氯氧磷为原料,在850℃下进行恒温扩散,最终在硅片表面形成PN结,方块电阻控制在55±3ohm/□,最后将扩散后的硅片从石英舟上取下并按一定方向放置在承载盒内。

4.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述去除硅片表面周边PN结包括如下步骤:采用等离子刻蚀的方法将轻重掺杂后的硅片周边的PN结去除掉。

5.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述进行酸洗去除硅片表面的磷硅玻璃包括如下步骤:将刻蚀后的硅片沿切割痕向下方向插入制绒花篮内,将装入制绒花篮内的硅片置于体积百分比为7-13%的氢氟酸溶液中,清洗3-5分钟将硅片表面的磷硅玻璃去除干净。

6.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述在硅片表面的形成钝化及减反射层包括如下步骤:采用等离子增强化学气相沉积法在硅片的扩散面沉积一层氮化硅薄膜形成钝化及减反射层,薄膜的厚度控制在80~85nm,折射率控制在2.05~2.1,以保证有良好的减反射和钝化效果,最后将镀膜后的硅片按一定方向放置在待印刷的承载盒内。

7.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述丝网印刷包括如下步骤:用丝网印刷网版,在背面先印刷背电极浆料,再印刷背电场浆料,并分别在200℃~300℃的温度下烘干,在正面印刷正电极浆料,使得印刷后正电极细栅线方向与切割线方向成垂直状。

8.如权利要求1所述的一种消除印刷波浪纹的太阳电池的制备方法,其特征在于,所述烧结包括如下步骤:将印刷后的硅片传送至烧结炉,先在250-350℃的温度下烘干后,硅片传输进入表面温度依次从500℃左右到800℃左右的气氛下进行烧结。

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