[发明专利]一种压花塑料薄膜及设备以及压花工艺无效

专利信息
申请号: 201110395906.4 申请日: 2011-12-05
公开(公告)号: CN102501370A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 杨伟;赵学军;何斌 申请(专利权)人: 江阴升辉包装材料有限公司
主分类号: B29C59/04 分类号: B29C59/04;B32B27/08
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地址: 214411 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 压花 塑料薄膜 设备 以及 工艺
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种包装材料,具体涉及到一种压花塑料薄膜及设备

背景技术

现有的有花纹的真空袋薄膜生产设备是采用高温热熔树脂与塑料薄膜基材粘合或树脂经挤出流延的同时,使用有凹凸槽的冷却辊挤压形成压花纹路,这种方法易压破基材,从而形成微小裂纹,进而在使用过程中出现抽真空失败等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种结构合理,适用面广,价格经济,生产产品性能优异的压花塑料薄膜及设备,同时还提供了一种塑料薄膜的压花工艺。

为实现上述目的,本发明的技术方案是提供了一种压花塑料薄膜及设备,其特征在于,所述压花塑料薄膜为多层共挤薄膜,所述共挤膜通过压花设备在其表面上滚压有花纹,所述压花设备包括依次排列设置的放卷部分、加热部分、压花部分、冷却部分和收卷部分。

其中,在所述放卷部分与压花部分之间设有呈W型排列的传动辊,所述加热部分设置在所述传动辊之间。

所述压花部分包括相对转动的钢棍和压花辊。

所述的冷却部分为冷却辊。

所述多层共挤薄膜至少包括外膜层、粘结层和内膜层,外膜层与内膜层通过粘结层粘接在一起,所述外膜层为聚对二甲酸乙二酯(PET),或聚酰胺(尼龙或PA),或聚丙烯(PP),内膜层为聚乙烯(PE)或以聚乙烯为基础的共聚聚合物材料。

所述的多层共挤薄膜厚度为200微米~600微米。

所述压花塑料薄膜滚压花纹的深度在20微米~80微米之间。

所述压花辊为金属辊,在所述金属棍表面按照花纹雕刻有纹路,并进行硬化处理;所述纹路是通过一根橡胶辊与花纹辊压制而成。

一种塑料薄膜的压花工艺,其特征在于,所示压花工艺包括:将塑料薄膜放置在上所述设备的放卷部分,使塑料膜穿过呈W型排列的传动辊,再穿过钢棍与压花辊之间,然后经过冷却辊,最后缠绕在收卷辊上;首先启动加热部分,然后启动收卷辊用于牵引,然后通过调节压花辊的压力和加热冷却温度来调节压花纹路的深浅。

所述压花共挤膜,其特征在于,在表面所压花纹纹路,可以参考专利一种表面有压花的共挤塑料薄膜(专利申请号为ZL 2009 20276082.7)中所涉及的花纹。

一种压花塑料薄膜及设备,其特征在于纹路辊为在金属辊表面按照纹路雕刻有纹路,并进行硬化处理;所述纹路是通过一根橡胶辊与花纹辊压制而成。

本发明的优点和有益效果在于,该压花塑料薄膜及设备具有结构合理,适用面广,价格经济,生产产品性能优异的特点,可广泛应用于薄膜压花的生产。表面饰纹可明显改进塑料制品的外观和触感。塑料薄膜压花由于干扰了撕裂延伸而提高了材料强度,也使薄膜更加柔软。

附图说明

图1是本发明压花塑料薄膜图案图;

图2是本发明压花设备结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

如图1至2所示,本发明是一种压花塑料薄膜及设备,该压花塑料薄膜为多层共挤薄膜1,所述共挤膜1通过压花设备在其表面上滚压有花纹,所述压花设备包括依次排列设置的放卷部分2、加热部分3、压花部分4、冷却部分5和收卷部分6。

在本发明中,在所述放卷部分2与压花部分4之间设有呈W型排列的传动辊7,所述加热部分3设置在所述传动辊7之间。

在本发明中,所述压花部分4包括相对转动的钢棍4-1和压花辊4-2。所述的冷却部分5为冷却辊。

在本发明中,所述多层共挤薄膜至少包括外膜层、粘结层和内膜层,外膜层与内膜层通过粘结层粘接在一起,所述外膜层为聚对二甲酸乙二酯(PET),或聚酰胺(尼龙或PA),或聚丙烯(PP),内膜层为聚乙烯(PE)或以聚乙烯为基础的共聚聚合物材料。

在本发明中,所述的多层共挤薄膜厚度为200微米~600微米。

在本发明中,所述压花塑料薄膜滚压花纹的深度在20微米~80微米之间。

一种塑料薄膜的压花工艺,所示压花工艺包括:将塑料薄膜放置在上所述设备的放卷部分2上,使塑料膜穿过呈W型排列的传动辊7,再穿过钢棍4-1与压花辊4-2之间,然后经过冷却辊5,最后缠绕在收卷辊6上;首先启动加热部分3,然后启动收卷辊用于牵引,然后通过调节压花辊的压力和加热冷却温度来调节压花纹路的深浅。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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