[发明专利]一种低压等离子喷涂技术制备Y2O3陶瓷涂层的方法有效
申请号: | 201110396373.1 | 申请日: | 2011-12-02 |
公开(公告)号: | CN103132007A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 邵花;王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/10 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低压 等离子 喷涂 技术 制备 sub 陶瓷 涂层 方法 | ||
1.一种低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;
步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;
步骤(3),选择Ar和H2为离子气体,通过真空等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,在所述等离子喷涂开始时先将所述真空等离子喷涂设备的真空喷涂室抽真空至1-10Pa,再充入惰性气体Ar,此时使所述真空喷涂室内压力达1.3×103Pa;继续充入H2,使其压力达到103~104Pa后进行喷涂作业;制备出黑色Y2O3涂层。
2.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的Y2O3粉末的粒度为5~50μm。
3.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(2)中对待喷涂的基材表面进行预处理,具体包括如下步骤:对待喷涂的基材表面进行喷砂处理,并用丙酮清洗。
4.如权利要求3所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述喷砂处理采用的喷砂材料为白刚玉,喷砂粒度为50~100μm。
5.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中Ar气体的流量为40~90L/min,H2气体的流量为10~30L/min。
6.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中真空等离子喷涂设备的电弧电压为40~50V,电弧电流为600~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为200~500mm,送粉角度为50°~90°。
7.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中充入H2之前对所述待喷涂的基材进行预热且对所述基材表面进行溅射清理。
8.如权利要求1所述的低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中喷涂作业完毕后,所述真空喷涂室继续维持低压气氛103~104Pa直到所述基材冷却至100℃以下。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆