[发明专利]一种黑色Y2O3陶瓷涂层的制备方法

权利要求书

1.一种黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y₂O₃粉末；

步骤(2)，将所述Y₂O₃粉末二次造粒后进行高温还原烧结处理；

步骤(3)，对待喷涂的基材表面进行预处理；

步骤(4)，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出黑色Y₂O₃涂层。

2.如权利要求1所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中的二次造粒后的Y₂O₃粉末的粒度为5～50μm。

3.如权利要求1所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)具体包括如下步骤：将二次造粒后的Y₂O₃粉末置于反应炉或退火炉中，通入H₂进行还原反应生成缺氧的Y₂O₃颗粒，其中，还原烧结温度为1200℃～1800℃，还原烧结时间为60min～300min。

4.如权利要求3所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述还原烧结温度为1500℃～1600℃。

5.如权利要求1所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中对待喷涂的基材表面进行预处理，具体包括如下步骤：对待喷涂的基材表面进行喷砂处理，并用丙酮清洗。

6.如权利要求5所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述喷砂处理采用的喷砂材料为白刚玉，喷砂粒度为50～100μm。

7.如权利要求1所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中等离子体喷涂设备使用的离子气体为Ar和H₂。

8.如权利要求7所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，Ar气体的流量为40～90L/min，H₂气体的流量为5～20L/min。

9.如权利要求1所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中等离子体喷涂设备的电弧电压为40～50V，电弧电流为800～900A，送粉速度为15～100g/min，送粉角度50°～90°，喷涂距离为80～135mm。

10.如权利要求9所述的黑色Y₂O₃陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中等离子体喷涂设备在喷涂过程中，采用空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却基体，所述空气喷吹方法中冷却气体的流量为100～2000L/min，所述循环水冷方法中冷却水的流量为10～500L/min。