[发明专利]一种三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法无效

专利信息
申请号: 201110396560.X 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN103132004A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C4/10 分类号: C23C4/10;C23C4/12
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阴极 等离子 喷涂 技术 制备 sub 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;

步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;

步骤(3),通过三阴极等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层。

2.如权利要求1所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的Y2O3粉末的粒度为5~100μm。

3.如权利要求1所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(2)中对被喷涂的基材表面进行预处理,具体包括如下步骤:对被喷涂的基材表面进行喷砂处理,并用丙酮清洗。

4.如权利要求3所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述喷砂处理采用的喷砂材料为白刚玉,喷砂粒度为50~100μm。

5.如权利要求1所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中三阴极等离子体喷涂设备使用的离子气体为Ar和He,或Ar和H2

6.如权利要求5所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,当所述离子气体为Ar和He时,Ar气体的流量为50~200L/min,He气体的流量为20~50L/min;当所述离子气体为Ar和H2时,Ar气体的流量为50~200L/min,H2气体的流量为15~50L/min。

7.如权利要求1所述的三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中三阴极等离子喷涂设备的电弧电压为50~200V,电弧电流为200~300A,送粉速度15~100g/min,喷涂距离80~200mm。

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