[发明专利]层间层内电容的分离方法

权利要求书

1. 一种金属层间层内电容的分离方法，其特征在于，包括：

测量上层平行金属板和中间层金属combmeander测试结构之间的层间电容C1；

测量下层平行金属板和中间层金属combmeander测试结构之间的层间电容C2；

测量上层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的comb结构之间的层间电容、下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的comb结构之间的层间电容、中间层金属combmeander测试结构的comb与meander之间的层内电容之总电容C3；

测量下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的meander结构之间的层间电容、下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的meander结构之间的层间电容、中间层金属combmeander测试结构的comb与meander之间的层内电容之总电容C4；

求和C3与C4，减去C1、C2，并除以2便得combmeander测试结构的层内电容。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述层间电容C1包括上层平行金属板分别与中间层combmeander的comb、meander结构的电容之和。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述层间电容C2包括下层平行金属板分别与中间层combmeander的comb、meander结构的电容之和。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电容C3是上层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的comb结构之间的层间电容、下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的comb结构之间的层间电容、中间层金属combmeander测试结构的comb与meander之间的层内电容之和，C3是通过施加一定测量信号测量得到。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电容C4是下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的meander结构之间的层间电容、下层平行金属板与中间层金属combmeander测试结构的meander结构之间的层间电容、中间层金属combmeander测试结构的comb与meander之间的层内电容之和，C4是通过施加一定的测量信号测量得到。

6.任意一层metal层内电容的分离，其特征在于，利用权力要求1所述的分离方法。