[发明专利]一种抗菌织物的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110398704.5 申请日: 2011-12-06
公开(公告)号: CN102493181A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 王超;谢春萍;苏旭中;徐伯俊;梅恒 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: D06M11/83 分类号: D06M11/83;D06M23/00;D06M101/06;D06M101/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗菌 织物 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及到一种新的抗菌织物的制造方法,属于纺织加工领域。具体的说是将纳米银抗菌颗粒通过磁控溅射镀膜技术紧密均匀覆盖在普通纤维织物上,使其具有抗菌功能。

背景技术

在人类追求高生活质量的时代,对纤维面料的追求也越来越高,仅提供了优良的手感与外观,已不能满足人们的需求,人们更希望在穿着舒适的同时能够起到环保、抗菌、防静电、保健的作用,各种各样的新型纤维制成的面料正在被国内的纺织企业逐步应用到纺织面料的开发上,新型纤维的独特优势造就了纺织面料的功能化、舒适化和高档化,而且创造出传统纤维没有的新颖风格,正好迎合了时代的需求,所以得到迅速发展。

纳米银抗菌剂是国际公认的安全环保型抗菌剂。他的主要特点就是安全环保,对人体细胞无毒性、耐高温、不分解、接触式杀菌、重复杀菌。在金属离子抗菌剂中明显优于铜和锌。纳米银是抗菌剂,不能把它当作一次性的杀菌消毒剂来看待。它最大的应用价值就在于安全长效。对以革兰氏极阳性的金黄色葡萄球菌和极阴性的大肠杆菌的抗菌率大于99%,毫无疑问,对中间段的那几百种病菌抗菌率也可达99%的。对抗真菌霉菌效果稍差一些,主要是抗细菌用的,用于抑制细菌的滋生繁殖和预防交叉感染。

磁控溅射技术具有以下优点:1、沉积速度快,基材温升低,对膜层的损伤小;2、溅射所获得的薄膜与基片结合较好;3、对于大部分材料,只要能制成靶材,就可以实现溅射;4、溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好,成膜均匀性好;5、溅射工艺可重复性好,可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜;6、能够精确控制镀层的厚度,同时可通过改变参数条件控制组成薄膜的颗粒大小;7、不同的金属、合金、氧化物能够进行混合,同时溅射于基材上;8、易于实现工业化。

发明内容

本发明的目的是提供一种新的发热织物的制造方法,利用磁控溅射技术将纳米银抗菌颗粒覆盖在普通纤维织物上,得到抗菌织物,纳米银抗菌颗粒构成的薄膜均匀的覆盖在纤维上,且与纤维较好的结合,增强了抗菌织物的使用寿命,同时可根据该抗菌织物的使用领域不同,精确调控纳米银抗菌颗粒薄膜的厚度,易于实现工业化。

该发明的特征在于制造流程为:将纳米银抗菌颗粒制成靶材,将普通纤维织物制成基片,采用射频磁控溅射设备,将纳米银抗菌颗粒溅射到纤维织物制成的基片上沉积成膜,同时通过改变参数条件控制组成薄膜的颗粒大小,精确的控制镀层的厚度,经后处理之后,就制成了具有抗菌功能的抗菌织物。

具体实施方式

以下采用实施例具体说明本发明

实施例1

样品利用射频反应磁控溅射法在JGP560B型超高真空磁控溅射设备上制备。采用纳米银抗菌颗粒制成靶材,直径60mm,厚度4mm。采用30支普通棉纱制成的平纹织物为基片,样品制备过程中真空室气氛为纯度优于99.99%的氩气,基片与溅射靶的间距为50mm。本底真空为2.5×10-4Pa,控制建设过程中的工作气压为0.75Pa。基片温度控制在室温,射频溅射功率均控制为85W,样品沉积时间1h。

操作流程为:

基底的前处理——将载波片放在基片架上——检查设备,保证溅射室洁净——抽真空泵2.5×10-4Pa——通入工作气体——预溅射10min——结束溅射,取出样品——织物后处理——得到抗菌织物。

实施例2

样品利用射频反应磁控溅射法在JGP560B型超高真空磁控溅射设备上制备。采用纳米银抗菌颗粒制成靶材,直径60mm,厚度3mm。采用80支涤纶斜纹织物为基片,样品制备过程中真空室气氛为纯度优于99.99%的氩气,基片与溅射靶的间距为50mm。本底真空为3.5×10-4Pa,控制建设过程中的工作气压为0.75Pa。基片温度控制在室温,射频溅射功率均控制为95W,样品沉积时间1h。

操作流程为:

基底的前处理——将载波片放在基片架上——检查设备,保证溅射室洁净——抽真空泵2.5×10-4Pa——通入工作气体——预溅射10min——结束溅射,取出样品——织物后处理——得到抗菌织物。

应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应该视为本发明的保护范围。

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