[发明专利]聚焦环、聚焦环组合、IMP溅射设备无效

专利信息
申请号: 201110403767.5 申请日: 2011-12-07
公开(公告)号: CN102418075A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 315400 浙江省宁波市余姚*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 聚焦 组合 imp 溅射 设备
【权利要求书】:

1.一种聚焦环组合,其特征在于,包括:

聚焦环;

位于所述聚焦环外的安装钉,所述安装钉包括柱体与膨大的背部,所述安装钉的背部固定在所述聚焦环的外表面上,所述柱体的内部设有螺纹孔。

2.如权利要求1所述的聚焦环组合,其特征在于,所述安装钉和聚焦环的材料相同。

3.如权利要求1所述的聚焦环组合,其特征在于,所述安装钉焊接在所述聚焦环的外表面上。

4.如权利要求3所述的聚焦环组合,其特征在于,所述聚焦环的外表面形成有凹槽,安装钉的背部焊接在所述凹槽内。

5.如权利要求1所述的聚焦环组合,其特征在于,还包括螺杆,所述螺杆进入所述螺纹孔内。

6.一种聚焦环,其特征在于,所述聚焦环的外表面形成有凹槽。

7.一种IMP溅射设备,其特征在于,包括:

反应腔;

聚焦环,所述聚焦环位于反应腔内;

安装钉,所述安装钉包括柱体与膨大的背部,所述安装钉的背部固定在所述聚焦环的外表面上,所述柱体的内部设有螺纹孔;

螺杆,所述螺杆从反应腔的腔壁穿出进入所述螺纹孔。

8.如权利要求7所述的IMP溅射设备,其特征在于,所述安装钉和聚焦环的材料相同。

9.如权利要求7所述的IMP溅射设备,其特征在于,所述安装钉焊接在所述聚焦环的外表面上。

10.如权利要求9所述的IMP溅射设备,其特征在于,所述聚焦环的外表面形成有凹槽,安装钉的背部焊接在所述凹槽内。

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