[发明专利]聚焦环组合、IMP溅射设备有效
| 申请号： | 201110403783.4 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102437003A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚焦 组合 imp 溅射 设备 | ||
1.一种聚焦环组合，其特征在于，包括：
聚焦环，所述聚焦环上设有通孔；
安装钉，所述安装钉包括柱体及膨大的背部，所述背部贴附在所述聚焦环的内表面，所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面，所述柱体的内部设有螺纹孔；
其中，所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。
2.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于，所述安装钉和聚焦环的材质相同。
3.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于，所述聚焦环的内表面形成有凹槽，相应的，安装钉的背部嵌入在凹槽内。
4.如权利要求3所述的聚焦环组合，其特征在于，所述安装钉的背部嵌入凹槽的深度超过1.53mm。
5.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于，还包括螺杆，所述螺杆进入所述螺纹孔内。
6.一种IMP溅射设备，其特征在于，包括：
反应腔；
聚焦环，所述聚焦环上设有通孔，所述聚焦环位于反应腔内；
安装钉，所述安装钉包括柱体与膨大的背部，所述背部贴附在所述聚焦环的内表面，所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面，所述柱体的内部设有螺纹孔，其中，所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。
螺杆，所述螺杆从反应腔的腔壁穿出进入所述螺纹孔。
7.如权利要求6所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉和聚焦环的材质相同。
8.如权利要求6所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述聚焦环的内表面形成有凹槽，相应的，安装钉的背部嵌入在凹槽内。
9.如权利要求8所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉的背部嵌入凹槽的深度超过1.53mm。
10.如权利要求1所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉的背部厚度大于2.53mm。
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