[发明专利]聚焦环、聚焦环组合、IMP溅射设备无效
| 申请号： | 201110403786.8 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102418076A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚焦 组合 imp 溅射 设备 | ||
1.一种聚焦环组合，其特征在于，包括：
聚焦环，所述聚焦环上有通孔，且其内表面在通孔处形成有凹槽；
安装钉，所述安装钉包括柱体与膨大的背部，所述背部贴附在所述聚焦环的内表面，所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面，所述背部嵌入所述凹槽，所述柱体的内部设有螺纹孔。
2.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于，所述安装钉和聚焦环的材料相同。
3.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于，所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。
4.如权利要求3所述的聚焦环组合，其特征在于，所述安装钉的背部嵌入凹槽的深度超过1.53mm。
5.如权利要求1所述的聚焦环组合，其特征在于还包括螺杆，所述螺杆进入所述螺纹孔内。
6.一种聚焦环，其特征在于，
所述聚焦环上有通孔，且其内表面在通孔处形成有凹槽。
7.一种IMP溅射设备，其特征在于，包括：
反应腔；
聚焦环，所述聚焦环上有通孔，且其内表面在通孔处形成有凹槽；
安装钉，所述安装钉包括柱体与膨大的背部，所述背部贴附在所述聚焦环的内表面，所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面，所述背部嵌入所述凹槽，所述柱体的内部设有螺纹孔；
螺杆，所述螺杆从反应腔的腔壁穿出进入所述螺纹孔。
8.如权利要求7所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉和聚焦环的材料相同。
9.如权利要求7所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉的背部大于1.53mm。
10.如权利要求9所述的IMP溅射设备，其特征在于，所述安装钉的背部大于2.53mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料有限公司，未经宁波江丰电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110403786.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电连接器和电连接器壳体
- 下一篇：立体图像中的对象跟踪和强调
- 同类专利
- 专利分类
