[发明专利]一种禁带宽度可调的碲锌镉薄膜材料的制备方法

权利要求书

1.一种禁带宽度可调的碲锌镉薄膜材料的制备方法，其特征在于步骤如下：

A.基片清洗

清洗工艺过程为：有机溶剂丙酮或酒精→去离子水→盐酸→去离子水→在超净环境下氮气吹干；

B.Cd_1-xZn_xTe复合薄膜的生长

将基片固定在磁控溅射腔室的基片台上，将由Zn掺杂，掺杂剂量比为0wt％-80wt％的Cd_1-xZn_xTe靶和Zn靶安装在各自的靶枪上，将溅射腔真空抽至2.9×10^-3Pa，然后在基片上依次生长Cd_1-xZn_xTe/Zn/Cd_1-xZn_xTe/Zn薄膜，其厚度依次控制在100-1000nm/20-100nm/200-2000nm/20-1000nm；

或者在基片上依次生长Zn/Cd_1-xZn_xTe/Zn/Cd_1-xZn_xTe/Zn薄膜，其厚度依次控制在10-50nm/100-1000nm/20-100nm/200-2000nm/20-1000nm；

Cd_1-xZn_xTe薄膜的磁控溅射参数设定为：溅射功率20-50W，溅射气体为高纯Ar气，溅射气压为2.0-3.8Pa，基片温度为298-673K；

Zn薄膜的磁控溅射参数设定为：溅射功率30-50W，溅射气体为高纯Ar气，溅射气压为1.0-2.0Pa，基片温度为298-673K；

C.将上述生长好的复合结构薄膜放入快速退火炉中，抽真空至10Pa，通过调节针孔阀，控制通入的高纯空气的流量，使快速退火炉内的压强为7.5×10⁴Pa，退火温度473-673K，退火时间20-40min，自然冷却到室温取出。

2.根据权利要求1的一种禁带宽度可调的碲锌镉薄膜材料的制备方法，其特征在于：所说的基片为玻璃片、镀Mo的不锈钢、镀Mo的聚酰亚胺。