[发明专利]一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法无效
申请号: | 201110405531.5 | 申请日: | 2011-12-08 |
公开(公告)号: | CN102489286A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 文峰;冷永祥;谢东;赵安莎;张聪 | 申请(专利权)人: | 海南大学 |
主分类号: | B01J21/18 | 分类号: | B01J21/18;B01J35/02 |
代理公司: | 海口翔翔专利事务有限公司 46001 | 代理人: | 李勇;刘清莲 |
地址: | 570228 *** | 国省代码: | 海南;66 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光催化 活性碳 掺杂 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光催化活性碳掺杂氧化钛薄膜的制备方法。
背景技术
氧化钛系光催化材料在污水处理,有机污染物降解、光解水制氢和抗菌方面已经表现出广阔的应用前景。但TiO2是宽禁带半导体,只有能量大于禁带宽度(E0=3.2eV)的光照射时才能激发光催化反应。也就是说,只有波长<387.5nm的紫外光才能使它激发。而太阳能中紫外光所占比例不足5%,因而对太阳能的利用率低,大大限制了其应用。为了实现可见光条件下的光催化抗菌和空气净化,主要有两种途径可供选择:1降低TiO2半导体的禁带宽度;2减少光生电子和空穴复合。前者可通过掺杂实现,是较好的措施(刘世凯,TIO2基纳米管阵列的构筑、表征及其光电化学性质研究[D],吉林大学大学博士学位论文,2009; 季君晖,史维明 编著,《抗菌材料》,化学工业出版社,2004:p77-78)。目前,一些文献报道了对TiO2进行掺杂主要有过渡金属(Fe、Mo、Re、Ru、V和Rh)和非金属掺杂(N、C、S、卤素)两种(R.Asahi, T.Morikawa, T.Ohwaki, K.Aoki, Y. Taga, Vsible-light Photocatalysis in nitrogen-doped titanium oxides [J]. Science, 2001, 293(5528): 269-271;S.U.M.Khan, M. Al-Shahry, W.B. Ingler Jr, Efficient photochemical water splitting by a chemically modified n-TiO2[J].Science, 2002, 297(5590):2243-2245;C.H. Ao, S.C.Lee, Combination effect of activated carbon with TiO2 for the photodegradation of binary pollutants at typical indoor air level [J], J.Photochem.Photobio.A:Chem., 2004, 161(2-3):131-140;T. Ohno, T. Mitsui, M. Matsumura, Photocatalytic activity of S-doped TiO2: photoeatalyst under visible light[J].Chem.Lett.,2003,32(4):364-365;Umebayashi,T.;Yamaki,T.;Tanaka,S.;Asai,K.Vsible light-induced degradation of methylene blue on S-doped TiO2[J].Chem.Lett.,2003,32(4):330-331;J.C. Yu, J.G. Yu, W.K. Ho, Z.T.Jiang, L.Z.Zhang, Effects of F–doping on the photocatalytic activity and microstructures of nanocrystalline TiO2 powders [J]. Chem.Mater., 2002, 14(9):3808-3816)。
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