[发明专利]磁控溅射设备中铜靶刻蚀形貌的仿真计算方法

权利要求书

1.磁控溅射设备中铜靶刻蚀形貌的仿真计算方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)通过ansys仿真或在xy平台上用三维高斯计测量，取得磁电管在靶材表面磁场强度的水平分量；

(2)对各点磁场强度数据进行多项式拟合，将离散数据变成连续的函数，以便于后续赋值计算；

(3)建立有效磁场数据矩阵，将拟合后曲线数值赋值于整个磁电管圆周表面，求得刻蚀跑道矩阵；

(4)根据磁电管实际结构及运动原理，计算磁铁组件中心点运动轨迹方程，即刻蚀跑道扫描路径；

(5)建立靶材刻蚀矩阵，选定步长，计算该步长上磁铁组件运动的确切位置，由磁电管磁场数据与靶材刻蚀程度成正比的对应关系，确定刻蚀系数，得到该步长上靶材刻蚀矩阵；

(6)将靶材刻蚀时间t离散化，由磁铁组件中心点运动轨迹方程，计算每一步长上离散点确切位置，将每一个离散点上的靶材刻蚀矩阵叠加，得到刻蚀时间t后靶材刻蚀矩阵；

(7)通过矩阵运算，得到需要的参数或图形，包括靶材刻蚀三维形貌、靶材刻蚀曲线、刻蚀跑道图形、运动轨迹图形、靶材利用率大小。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备中铜靶刻蚀形貌的仿真计算方法，其特征在于，所述步骤(1)中，对于具有周向对称性的磁电管，用磁电管直径方向磁场作为靶材表面磁场强度的水平分量。