[发明专利]盘式旋磁纵吹真空灭弧室有效
| 申请号： | 201110408481.6 | 申请日： | 2011-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN102522257A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 刘晓明;曹云东;赖增辉 | 申请（专利权）人： | 沈阳工业大学 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人： | 郭元艺 |
| 地址： | 110870 辽宁省沈阳市沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 盘式旋磁纵吹 真空 灭弧室 | ||
【权利要求书】：
1.盘式旋磁纵吹真空灭弧室，其特征在于，包括导电杆（1）、触头杯（5）、铁芯（7）及与所述触头杯（5）相接的电极（4）；所述触头杯（5）与导电杆（1）固定配接；所述铁芯（7）置入触头杯（5）内；在所述触头杯（5）上等份开有偶数个环流侧槽；在所述铁芯（7）上等份开有绕组槽（6）；所述绕组槽（6）内置入线圈绕组（8）。
2.根据权利要求1所述的盘式旋磁纵吹真空灭弧室，其特征在于：所述绕组槽（6）的个数为12～30个。
3.根据权利要求2所述的盘式旋磁纵吹真空灭弧室，其特征在于：所述绕组槽（6）的槽宽为2.5～3mm。
4.根据权利要求3所述的盘式旋磁纵吹真空灭弧室，其特征在于：所述线圈绕组（8）沿径向呈辐射状分布成盘式结构。
5.根据权利要求4所述的盘式旋磁纵吹真空灭弧室，其特征在于：在所述电极（4）的端部固定设有触头片（3）。
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