[发明专利]光信息记录媒体用记录层和光信息记录媒体有效

专利信息
申请号: 201110413857.2 申请日: 2011-12-13
公开(公告)号: CN102568503A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 田内裕基;志田阳子 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 信息 记录 媒体
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光信息记录媒体用记录层和光信息记录媒体。

背景技术

光信息记录媒体(光盘)由CD、DVD、BD这样的光盘代表,根据记录再生方式,被大致区分为只读型、追记型、重写型三类。其中,追记型的光盘的记录方式,主要被大致区分为如下方式:使记录层相变的相变方式;使多个记录层反应的层间反应方式;使构成记录层的化合物分解的分解方式;使记录层上局部性地形成孔和凹坑等的记录标记的开孔方式。

在所述相变方式中,作为记录层的材料提出的是,利用了基于记录层的结晶化造成光学特性变化的材料。例如在专利文献1中,提出了含有Te-O-M(M为从金属元素、半金属元素和半导体元素中选出的至少一种元素)的记录层,在专利文献2中,提出了含有Sb和Te的记录层。

作为所述层间反应方式的光信息记录媒体的记录层,例如在专利文献3中提出有一种记录层,其使第一记录层由含有In-O-(Ni、Mn、Mo)的合金构成,并且使第二记录层由含有Se和/或Te元素、O(氧)、以及从Ti、Pd、Zr之中选出的一个元素的合金构成。另外在专利文献4中提出,第一记录层含有以In为主成分的金属,第二记录层含有属于5B或6B族元素的至少一种元素,层叠氧化物以外的金属或非金属,通过加热带来的反应或合金化进行记录。

作为分解构成所述记录层的化合物的分解方式的记录层,例如在专利文献5中,公开了以氮化物为主成分的记录层,其研究的是,通过加热来分解该氮化物,从而进行记录的材料和有机色素材料。

作为所述开孔方式的记录层,研究了由低熔点金属材料构成的记录层。例如在专利文献6中,提出有一种由在Sn合金中添加有3B族、4B族、5B族的元素的合金构成的记录层。另外在专利文献7中,提出有一种由Sn基合金构成的记录层,该Sn基合金在1~50原子%的范围内含有Ni和/或Co。此外在专利文献8中公开有一种由In合金构成的记录层,该In合金含有20~65原子%的Co,其中还含有从Sn、Bi、Ge、Si中选出的一种以上的元素19原子%以下。另外在专利文献9中公开有一种记录层,其由Pd、Ag、O构成,该Pd、Ag、O的原子数的比率被控制在规定范围内。

【专利文献1】特开2005-135568号公报

【专利文献2】特开2003-331461号公报

【专利文献3】特开2003-326848号公报

【专利文献4】日本专利第3499724号公报

【专利文献5】国际公开第2003/101750号手册

【专利文献6】特开2002-225433号公报

【专利文献7】特开2007-196683号公报

【专利文献8】日本专利第4110194号公报

【专利文献9】特开2005-238516号公报

在光信息记录媒体所要求的需求特性中,要求的有:通过写入激光的入射,具有记录信号再生充分的信号振幅(高调制度);信号强度高(高C/N比);难以产生劣化和环境劣化的高耐久性。C/N比是载波噪声比(Carrier to Noise ratio)的意思,读取时的信号和背景的噪音输出级别的比。

作为上述现有技术所公开的记录材料,以记录材料单体难以满足这些要求。

在相变方式中,记录层单独的反射率低,所以应该提高光盘状态下的反射率,需要反射膜,并且为了增加调制度,需要在记录层的上下设置ZnS-SiO2等电介体层(电介质膜),构成光盘的层数增多,生产率差。由于层间反应方式也需要多层记录层,因此构成光盘的层数增多,生产率差。

在分解方式中,作为记录层,使用有机色素材料的光信息记录媒体被广泛使用,但是,因为难以吸收蓝色激光和蓝紫色激光这样短波长(400nm附近)的可见光线,所以得不到良好的记录信息,不能提高记录密度。另外,使用了有机色素材料的光信息记录媒体,抑制日光等的光造成的劣化和长期保存造成的劣化有困难。

相对于此,所述开孔方式,因为记录层自身的反射率高,并且也能够确保大的调制度,所以能够降低构成光盘的层数,但要达成更高的记录灵敏度时,还需要进一步研究。

发明内容

本发明鉴于这种情况而做,其目的在于,提供一种既能够降低光盘的层数,又满足上述要求特性,能够提高光信息记录媒体的生产率的光信息记录媒体用记录层,和具有该记录层的光信息记录媒体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社神户制钢所,未经株式会社神户制钢所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110413857.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top