[发明专利]背光模块的导光板的选取方法有效

专利信息
申请号: 201110418048.0 申请日: 2011-12-14
公开(公告)号: CN102495469A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 胡哲彰;张光耀;孙雷;樊为 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B6/00;G02F1/13357
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 欧阳启明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 背光 模块 导光板 选取 方法
【权利要求书】:

1.一种导光板的选取方法,适用于液晶面板的背光模块,所述选取方法包括下列步骤:

计算若干散光效应指数(mura index),以个别相对应于若干第一型导光板的散光状态,其中每一第一型导光板设有若干第一网点,每一散光效应指数的方程式表示为MI=D1*T1/(P1*P1),MI为每一散光效应指数,D为每一第一网点的尺寸,P1为所述若干第一网点彼此之间的第一间距,T1为所述第一型导光板的第一厚度;

定义若干膜片架构,每一膜片架构相对应于每一散光效应指数,以建立所述若干第一型导光板的所述若干散光效应指数与所述若干膜片架构之间的对应数据库;以及

从所述对应数据库中选取一膜片架构及其对应的散光效应指数,以决定所述选取膜片架构下一第二型导光板的临界网点尺寸,其中所述第二型导光板设有若干第二网点,所述临界网点尺寸与所述膜片架构对应的散光效应指数成正比例相关,所述临界网点尺寸与所述若干第二网点彼此之间的第二间距成正比例相关,并且所述临界网点尺寸与所述第二型导光板的第二厚度成反比例相关,通过所述膜片架构对应的散光效应指数、所述第二间距以及第二厚度,以获得所述临界网点尺寸。

2.根据权利要求1所述的选取方法,其特征在于,所述临界网点尺寸的方程式表示为CDD=MI*(P2*P2)/T2,其中CDD为所述临界网点尺寸,MI为选取的膜片架构的散光效应指数,P2为所述若干第二网点彼此之间的第二间距,T2为所述第二型导光板的第二厚度。

3.根据权利要求1所述的选取方法,其特征在于,当所述膜片架构是由重迭的两张扩散片所组成时,所述膜片架构的散光效应指数介于0.44至0.66之间,所述第二型导光板的临界网点尺寸CDD介于0.44*(P2*P2)/T2至0.66*(P2*P2)/T2之间。

4.根据权利要求1所述的选取方法,其特征在于,当所述膜片架构依序为扩散片、增亮膜以及微透镜所组成,并且所述扩散片邻接于所述第一导光板以及第二导光板时,所述膜片架构的散光效应指数介于0.57至0.85之间,所述第二型导光板的临界网点尺寸CDD介于0.57*(P2*P2)/T2至0.85*(P2*P2)/T2之间。

5.根据权利要求1所述的选取方法,其特征在于,当所述膜片架构依序为第一扩散片、增亮膜以及第二扩散片所组成,并且所述第一扩散片邻接于所述第一导光板以及第二导光板时,所述膜片架构的散光效应指数介于0.71至1.07之间,所述第二型导光板的临界网点尺寸CDD介于0.71*(P2*P2)/T2至1.07*(P2*P2)/T2之间。

6.根据权利要求1所述的选取方法,其特征在于,当所述膜片架构依序为扩散片、增亮膜以及反射式增亮膜,并且所述扩散片邻接于所述第一导光板以及第二导光板时,所述膜片架构的散光效应指数介于0.68至1.02之间,所述第二型导光板的临界网点尺寸CDD介于0.68*(P2*P2)/T2至1.02*(P2*P2)/T2之间。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,当所述膜片架构依序为第一增亮膜、第二增亮膜以及扩散片,并且所述第一增亮膜邻接于所述第一导光板以及第二导光板时,所述膜片架构的散光效应指数介于0.66至0.99之间,所述第二型导光板的临界网点尺寸CDD介于0.66*(P2*P2)/T2至0.99*(P2*P2)/T2之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110418048.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top