[发明专利]更新校准数据的方法和器件制造方法有效
申请号: | 201110418114.4 | 申请日: | 2011-12-14 |
公开(公告)号: | CN102540784A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | F·范德马斯特;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 更新 校准 数据 方法 器件 制造 | ||
1.一种用于更新第一位置检测系统的校准数据的方法,所述第一位置检测系统适合于确定物体的位置,所述第一位置检测系统包括目标和传感器,所述目标或所述传感器被安装到所述物体上,所述校准数据包括所述物体的表观测量位置与所述物体的实际位置的关联系数,所述系数被用于将所述表观测量位置转换成所述实际位置,以校正所述第一位置检测系统的误差和能够根据所述物体的表观测量位置确定所述物体的实际位置,所述方法包括:
使用独立于所述第一位置检测系统的第二位置检测系统确定所述物体的位置;
计算由所述第二位置检测系统检测的所述位置与由所述第一位置检测系统确定的所述物体的位置之间的差别;和
在假定由所述第二位置检测系统确定的位置是所述物体的实际位置的情况下,利用所计算的差别由所述第一位置检测系统更新所述物体的相应的表观测量位置的系数,
其中在所述物体的正常使用时间段期间进行测量,所述测量被进行用以确定被使用的物体的位置以计算所述差别。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一和第二位置检测系统同时确定了所述物体的位置。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所计算的差别的一部分被在更新所述系数时应用于所述系数。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所计算的差别在被用于更新所述系数之前被用低通滤波器滤波。
5.根据权利要求4所述的方法,其中在所述低通滤波器中,所计算的差别被用于计算系数的期望的变化,以将所述第一位置检测系统的表观测量位置转换成由所述第二位置检测系统检测的位置。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法,其中仅在针对给定的测量位置计算的差别已经被计算为处于预定范围内多于预定的次数之后才进行对于给定的表观测量位置的所述更新步骤。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中所述更新步骤包括更新与所述相应的表观测量位置邻近的测量位置的系数,以使相邻的表观测量位置之间的系数的差别平滑。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法,其中所计算的差别仅被用于在所计算的差别被基于在所述物体的零加速的时间段期间进行的测量针对于位置进行计算时更新所述系数。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述校准数据包括最后一次计算每一表观测量位置的差别的指示。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法,其中所述校准数据包括时间延迟系数,所述时间延迟系数表示由所述第一位置检测系统进行的所述物体的实际位置和/或表观测量位置的计算与通过所述第二位置确定系统进行的所述物体的位置的计算之间的时间延迟的差别。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的方法,其中所述系数包括第一组,所述第一组与所述目标相对于参考点的位置相关联。
12.根据权利要求1-11中任一项所述的方法,其中所述第二位置检测系统被使得适合于贯穿所述物体的行进范围检测所述物体的位置。
13.根据权利要求1-12中任一项所述的方法,其中所述物体是光刻设备中的物体。
14.一种用于更新第一位置检测系统的校准数据的控制器,所述控制器被使得适合于执行根据权利要求1-13中任一项所述的方法。
15.一种器件制造方法,所述方法包括将穿过投影系统的图案化的辐射束引导到定位在物体上的衬底上,和在所述引导期间和/或在同一衬底上的分离的引导步骤之间相对于所述投影系统移动所述衬底,根据权利要求1-13中任一项所述的方法被对于所述衬底的移动同时执行。
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