[发明专利]电感耦合等离子体线圈及等离子体注入装置

权利要求书

1.一种电感耦合等离子体线圈，其特征在于，包括：

两组折回而成的射频线圈；

两组所述射频线圈的空间结构采用平面蛇形并联的方式，且在空间分布上严格对称，使得在同一线圈位置的射频电流的方向相同。

2.如权利要求1所述的电感耦合等离子体线圈，其特征在于：

两组所述射频线圈由半径为1mm-10mm的空心铜管制成。

3.如权利要求1或2所述的电感耦合等离子体线圈，其特征在于：

两组所述射频线圈的一端相连，另一端不相连。

4.一种电感耦合等离子体注入装置，其特征在于，包括：

权利要求3所述的电感耦合等离子体线圈、匹配网络、移相器及第一互补功率源；

所述第一互补功率源用于提供大功率的正弦波；

所述第一互补功率源分为两路，一路将正弦波通过匹配网路输送至所述电感耦合等离子体线圈不相连端的一侧射频线圈，另一路通过所述移相器形成与前一路相位相反的互补正弦波后，再通过匹配网络输送至所述电感耦合等离子体线圈不相连端的另一侧射频线圈。

5.如权利要求4所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于：

所述匹配网络采用L型自动阻抗匹配方式，利用可调电容对射频线圈进行自动阻抗匹配，保证两组射频线圈同一对称位置始终电流同相，从而使线圈能够很好的激发面积高、功率均匀的等离子体。

6.如权利要求5所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于，还包括：

反应腔室、基座及第二射频偏压功率源；

所述反应腔室设置有进气口与出气口；

所述基座设置在所述反应腔室内与所述第二射频偏压功率源连接。

7.如权利要求6所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于：

所述电感耦合等离子体线圈设置在所述反应腔室内。

8.如权利要求7所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于，还包括：

石英管，所述石英管设置在所述电感耦合等离子体线圈外围。

9.如权利要求8所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于：

所述石英管是直径为4mm-30mm，厚度为1mm-5mm的空心石英管。

10.如权利要求9所述的电感耦合等离子体注入装置，其特征在于：

所述电感耦合等离子体线圈的空心铜管中心用水流冷却，且所述等离子体线圈与所述石英管之间留有间隙。