[发明专利]用于沉积薄膜的掩模板框架组装件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110422163.5 申请日: 2011-12-09
公开(公告)号: CN102560336A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 申义信;朴宰奭;曹永根;金玗冬;金圭范;许晸宇 申请(专利权)人: 三星移动显示器株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 沉积 薄膜 模板 框架 组装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,包括:

框架,形成有开口部;以及

多个分割掩模板,具有与单位画面对应的、用于沉积的图案,并且其两端部固定至所述框架以使所述用于沉积的图案位于所述开口部;

所述各个分割掩模板被形成为,通过多个部分掩模板的结合以构成与所述单位画面对应的、用于沉积的图案。

2.根据权利要求1所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,所述部分掩模板包括:

第一部分掩模板,具有所述用于沉积的图案的第一部分图案;以及

第二部分掩模板,具有所述用于沉积的图案的第二部分图案;

所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的互相接触的截面通过粘合剂而接合。

3.根据权利要求2所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述第一部分图案和所述第二部分图案包括所述第一部分掩模板和第二部分掩模板的接合部,并且具有预定的图案节距。

4.根据权利要求3所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述粘合剂是紫外线硬化型粘合剂。

5.根据权利要求4所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述紫外线硬化型粘合剂分别涂布在所述接合部的上表面和下表面并得以硬化。

6.根据权利要求5所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

形成所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的所述接合部的截面互相平行。

7.根据权利要求3所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述粘合剂是热硬化型粘合剂。

8.根据权利要求7所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述热硬化型粘合剂涂布在所述接合部的截面并得以硬化。

9.根据权利要求8所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件,其特征在于,

所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的所述截面互相平行。

10.用于沉积薄膜的掩模板框架组装件的制造方法,包括:

a,准备分别具有部分图案的部分掩模板,所述部分图案相当于与单位画面对应的、用于沉积的图案中的一部分;

b,制造将所述部分掩模板接合的分割掩模板,其中,所述部分掩模板通过连接所述部分图案以形成与所述单位画面对应的、用于沉积的图案;以及

c,将所述分割掩模板固定在框架上。

11.根据权利要求10所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件的制造方法,其特征在于,所述部分掩模板包括:

第一部分掩模板,具有第一部分图案;以及

第二部分掩模板,具有第二部分图案;

所述第一部分图案和所述第二部分图案包括所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的接合部,并且具有预定的图案节距。

12.根据权利要求11所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件的制造方法,其特征在于,所述步骤b包括:

排列所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板以使待互相接合的截面之间间隔预定距离而相邻;

在所述相邻的截面涂布紫外线硬化型粘合剂;以及

通过照射紫外线将所述紫外线硬化型粘合剂硬化。

13.根据权利要求12所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件的制造方法,其特征在于,所述紫外线硬化型粘合剂的涂布和硬化步骤包括:

在所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的接合部上表面涂布所述紫外线硬化型粘合剂并将其硬化;以及

在所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的接合部下表面涂布所述紫外线硬化型粘合剂并将其硬化。

14.根据权利要求13所述的用于沉积薄膜的掩模板框架组装件的制造方法,其特征在于,

所述紫外线硬化型粘合剂的涂布通过下述方式实施:可视相机跟踪所述第一部分掩模板和所述第二部分掩模板的接合部并且实施导向,涂布装置追踪所述可视相机并且实施涂布。

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