[发明专利]一种制作微孔光栏的方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件领域，尤其涉及一种制作微孔光栏的方法。

背景技术

光栏作为某些大型电子光学仪器上的重要配件，用于控制电子束及孔径角，在电子显微技术中用来作微区衍射和微区分析。随着科学事业的发展，对光栏孔径要求越来越小，现有利用光刻技术加工的20μm以下的微孔光栏。光栏孔径的直径大小，直接关系到电子显微镜的分辨率和成像的清晰度。

发明内容

本发明提供了一种全新的制作微孔光栏的方法，工艺简单，适合大规模快速制作。

为达到上述目的，本发明所提出的技术方案为：一种制作微孔光栏的方法，包括如下步骤：（1）采用光刻方法在光学基板上刻蚀所需形状、尺寸的凸起；（2）在凸起上镀一膜层，将此光学基板作为模板；（3）在光学基板的非镀膜区域覆盖SiO2气溶胶或低温焊料；（4）将SiO2气溶胶或低温焊料固化；（5）去除光学基板，形成所需微孔光栏；其中，所述光学基板采用可与SiO2气溶胶或低温焊料浸润的材料，凸起上镀的膜层采用与SiO2气溶胶或低温焊料不浸润的材料。

进一步的，步骤（5）中采用脱模或抛光方法去除光学基板。

进一步的，该方法可用于制作圆形、矩形、长方形等各种几何形状及尺寸的光栏。

本发明的有益效果：本发明的一种制作微孔光栏的方法，利用基板与SiO2气溶胶浸润，而膜层与SiO2气溶胶不浸润的特性制作微孔光栏阵列，工艺简单，并可大规模快速制作。

附图说明

图1为光刻后的光学基板示意图；

图2为光学基板凸起上镀非浸润膜层示意图；

图3为覆盖SiO2气溶胶之后的示意图；

图4为图1的俯视图；

图5为脱模后的微孔光栏示意图。

附图标记：1、光学基板；101、凸起；2、膜层；3、SiO2气溶胶；301、微孔。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，对本发明做进一步说明。

如图1-3所示，为微孔光栏的制作过程，包括如下步骤：

（1）采用光刻方法在光学基板1上刻蚀所需形状、尺寸的凸起101，如图1和4所示；

（2）在凸起101上镀一膜层2，将此光学基板1作为模板，如图2所示；

（3）在光学基板1的非镀膜区域覆盖SiO2气溶胶3或低温焊料。如图3所示；

（4）将SiO2气溶胶3或低温焊料固化；

（5）去除光学基板1，则在固化后的SiO2气溶胶3或低温焊料上形成微孔301阵列，如图5所示，即为所需微孔光栏；

其中，所述光学基板采用可与SiO2气溶胶或低温焊料浸润的材料，凸起上镀的膜层采用与SiO2气溶胶或低温焊料不浸润的材料。步骤（5）中可采用脱模或抛光方法去除光学基板1。

该方法可用于制作圆形、矩形、长方形等各种几何形状及尺寸的光栏，并可实现大规模快速制作。

尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本发明，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本发明的精神和范围内，在形式上和细节上对本发明做出的各种变化，均为本发明的保护范围。