[发明专利]塑件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110423698.4 申请日: 2011-12-17
公开(公告)号: CN103158308A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 刘旭;曹达华 申请(专利权)人: 深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B7/04;C23C14/35;C23C14/20;H05K9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种塑件及其制造方法。

背景技术

现有技术,通常以铟锡为蒸发料,通过蒸发镀膜的方式在塑件(如手机壳体)上蒸镀一白色的、具有良好的透光率及强烈金属质感的铟锡不导电膜层。如此,使塑件具有电磁屏蔽性能的同时还可呈现出白色的高雅外观效果。但采用铟锡进行蒸发镀膜过程中,必须严格控制真空室中的气氛,以避免铟锡被氧化成氧化铟锡而使形成的膜层具有导电性,如此提高了对镀膜设备的要求。此外,铟的价格较高,提高了铟锡不导电膜层的制备成本。

发明内容

有鉴于此,提供一种可解决上述问题的塑件。

另外,还提供一种所述塑件的制造方法。

一种塑件,包括塑料基体及形成于该塑料基体上的不导电镀膜层,该不导电镀膜层为硅铝复合层,该硅铝复合层的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为70至75,a*坐标为0至0.5,b*坐标为0至0.5。

一种塑件的制造方法,包括以下步骤:

提供塑料基体;

采用真空镀膜的方式,以硅铝复合靶为靶材,在所述塑料基体上形成一不导电镀膜层,该不导电镀膜层为硅铝复合层,该硅铝复合层的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为70至75,a*坐标为0至0.5,b*坐标为0至0.5。

所述塑件的制造方法,采用真空镀膜的方式,以硅铝复合靶为靶材,在塑料基体上形成不导电镀膜层,使所述塑件在具有电磁屏蔽性能的同时还可呈现出白色的高雅外观效果。在形成所述不导电镀膜层的过程中,即使镀膜室内混入了少量的氧气,对所述不导电镀膜层的导电性、颜色均没有影响,提高了制备所述不导电镀膜层的稳定性和重复性。另外,采用所述硅铝复合靶,降低了生产成本。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例塑件的剖视图;

图2是本发明另一较佳实施例塑件的剖视图;

图3是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

塑件10塑料基体11底漆层13不导电镀膜层15面漆层17镀膜机100镀膜室20真空泵30轨迹21硅铝复合靶22气源通道24

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参见图1,本发明一较佳实施例的塑件10包括一塑料基体11、依次形成于该塑料基体11的底漆层13、不导电镀膜层15。

所述底漆层13的厚度为8~15μm。用以形成所述底漆层13的漆为UV漆或热固化漆。所述底漆层13可提高塑料基体11表面的平整度、不导电膜层15与塑料基体11的结合力。

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