[发明专利]抗指纹剂，应用该抗指纹剂进行表面处理的方法及制品

权利要求书

1.一种抗指纹剂，该抗指纹剂主要由液态的聚四氟乙烯和硅烷溶液组成，其特征在于：所述聚四氟乙烯与硅烷溶液的体积比为0.5～0.8，所述硅烷溶液的主要由甲基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯、无水乙醇、去离子水及稀硫酸组成。

2.如权利要求1所述的抗指纹剂，其特征在于：所述硅烷溶液中，甲基三乙氧基硅烷的体积百分含量为60％～63％、正硅酸乙酯的体积百分含量为2％～3％、无水乙醇的体积百分含量为2％～3％、去离子水的体积百分含量为25％～27％、稀硫酸的体积百分含量为4％～11％；配置所述硅烷溶液所采用的稀硫酸的质量百分含量为45％。

3.一种应用权利要求1-2中任一项的抗指纹剂进行表面处理的方法，包括如下步骤：

提供一基体，该基体表面的材质为金属或金属化合物；

提供抗指纹剂，该抗指纹剂主要由液态的聚四氟乙烯和硅烷溶液组成，聚四氟乙烯与所述硅烷溶液的体积比为0.5～0.8，该硅烷溶液的主要由甲基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯、无水乙醇、去离子水及稀硫酸组成；

采用浸涂的方式，以抗指纹剂为浸泡液，于所述基体上形成抗指纹层。

4.如权利要求3所述的表面处理的方法，其特征在于：所述硅烷溶液中，甲基三乙氧基硅烷的体积百分含量为60％～63％、正硅酸乙酯的体积百分含量为2％～3％、无水乙醇的体积百分含量为2％～3％、去离子水的体积百分含量为25％～27％及稀硫酸的体积百分含量为4％～11％，配置所述硅烷溶液所采用的稀硫酸的质量百分含量为45％。

5.如权利要求3或4所述的表面处理的方法，其特征在于：所述抗指纹剂通过如下方式获得：将聚四氟乙烯与硅烷溶液以体积比为0.5～0.8的比例混合制得混合液，搅拌均匀后静置30～40min；之后，对所述混合液进行过滤，制得所述抗指纹剂。

6.如权利要求3或4所述的表面处理的方法，其特征在于：所述抗指纹层通过如下方式制得：将所述基体置于在所述抗指纹剂中浸泡20～30s，再将该基体在150～200℃的温度下烘烤30～45min。

7.一种由经权利要求3-6中任一项所述的表面处理的方法制得的制品，该制品包括基体及形成于基体上的抗指纹层，其特征在于：形成该抗指纹层的抗指纹剂的主要由聚四氟乙烯和硅烷溶液组成，所述聚四氟乙烯与硅烷溶液的体积比0.5～0.8，所述硅烷溶液的主要由甲基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯、无水乙醇、去离子水及稀硫酸组成。

8.如权利要求7所述的制品，其特征在于：所述抗指纹层的厚度为5～10μm。

9.如权利要求7或8所述的制品，其特征在于：所述基体为铝合金、不锈钢或镁合金。

10.如权利要求7或8所述的制品，其特征在于：所述基体为镀覆有金属化合物层、金属层的塑料、陶瓷或金属基材。