[发明专利]具有统一接口的DFM改进实用工具有效

专利信息
申请号: 201110426129.5 申请日: 2011-12-16
公开(公告)号: CN102890731A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 陈文豪;江哲维;傅宗民 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 统一 接口 dfm 改进 实用工具
【说明书】:

技术领域

发明通常涉及半导体技术领域,更具体地来说,涉及一种DFM改进实用工具。

背景技术

可制造性设计(Design-for-manufacturing,DFM)是在整个产品开发过程中强调制造问题的开发实践。成功的DFM使得生产成本较低而无需牺牲产品质量。在制造业中,特别是在集成电路的制造中已经广泛地采用了DFM的概念。

通常,在集成电路的设计过程中,由设计者进行集成电路的布局。为了校正热点(hotspot)并改进电路的布局,制造集成电路的芯片代工厂商(foundry)为设计者们提供了一种实用工具(utility)来进行DFM检查,从而可以发现热点和未优化的布局图案,并且可以由设计者们校正这些热点和未优化的布局方案。为了通知设计者潜在问题的位置,实用工具通常在布局上形成位置标记来指出问题所在之处。

然而,常规方法不足以校正这个问题。因为位置标记仅能够提供与位置有关的信息,而不能提供成功校正问题所需的其它信息,设计者可能过度校正或者未充分校正问题。而且,芯片代工厂商不得不为设计者们提供设计者DFM检查的原理以校正这些问题。因此,常规方法也可能会导致商业秘密的泄露。

发明内容

为了解决现有技术所存在的问题,根据本发明的一个方面,提供了一种实用工具,包括:可制造性设计(DFM)检查器,被配置用于检查集成电路的布局图案;以及布局改变指令发生器,被配置成基于由所述DFM检查器所生成的结果生成布局改变指令,其中,在非临时性存储介质上包含所述DFM检查器和所述布局改变指令发生器,并且其中,所述布局改变指令指定在所述布局图案中的布局图案的标识以及要对所述布局图案实施的相应布局改变。

在该实用工具中,所述布局改变指令进一步指定所述布局改变的幅度;或者其中,所述布局改变指令发生器进一步被配置用于生成用来标记与所述布局改变相对应的位置的位置标记;或者其中,所述布局改变指令包括用于改变布局图案的多个指令,并且其中,使用逻辑关系对所述多个指令进行分组,所述逻辑关系选自基本上由“AND”、“OR”、“NOT”、及其组合所组成的组。

在该实用工具中,所述布局改变指令包括:改变所述布局图案和邻近的布局图案之间的间距;或者其中,所述布局改变指令包括:移动所述布局图案;或者其中,所述布局改变指令包括:使所述布局图案重新成形;或者其中,所述布局改变指令包括:重新确定所述布局图案的尺寸;或者其中,所述布局改变指令包括:改变位于不同层上的图案之间的关系,其中,所述关系包括所述布局图案的外围。

该实用工具进一步包括布局编辑器,被配置用于接收布局改变指令,并对所述布局图案执行所述布局改变指令。

根据本发明的另一方面,提供了一种实用工具,包括:计算机程序产品,具有非临时性计算机可读介质和在所述非临时性计算机可读介质上所包含的计算机程序,所述计算机程序包括:可制造性设计(DFM)检查器程序代码,用于检查集成电路的布局图案;以及布局改变指令生成程序代码,基于由所述DFM检查器程序代码所提供的结果生成布局改变指令,其中,所述布局改变指令包括:在集成电路的所述布局图案中的布局图案的标识;要对所述布局图案实施的布局改变的类型;以及所述布局改变的幅度。

在该实用工具中,所述布局改变的类型选自基本上由以下所组成的组:所述布局图案和另外的布局图案之间的间距的改变、所述布局图案的移动、所述布局图案的重新成形、重新确定所述布局图案的尺寸、位于不同层上的图案之间的关系的改变、及其组合;或者其中,所述布局改变指令涉及多个图案,并且其中,所述布局改变指令包括:没有指定所述多个所述图案中的特定一个。

在该实用工具中,所述布局改变指令包括:所述指令包括位于不同层中的图案之间的所述关系的改变;或者其中,所述布局改变指令生成程序代码进一步用于生成所述布局图案的位置标记;或者其中,所述布局改变指令包括用于改变包括所述布局图案的布局图案的多个指令,并且其中,采用逻辑关系对所述多个指令进行分组,所述逻辑关系选自基本上由“AND”、“OR”、“NOT”、及其组合所组成的组。

该实用工具进一步包括:布局编辑器,被配置用于接收所述布局改变指令,并对所述布局图案实施所述布局改变指令。

根据本发明的另一方面,提供了一种方法,包括:从数据库接收集成电路的布局;对所述布局的布局图案实施可制造性设计(DFM)检查;以及基于从所述DFM检查所获得的结果生成布局改变指令,其中所述布局改变指令包括:在集成电路的所述布局图案中的布局图案的标识;以及要对所述布局图案实施的布局改变的类型。

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